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光刻機(jī) 文章 最新資訊

(2023.3.20)半導(dǎo)體周要聞-莫大康

  • 半導(dǎo)體周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非:華為三年完成了13000型號(hào)器件的替代開發(fā)近日,華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎(jiǎng)?lì)C獎(jiǎng)典禮,為在解題揭榜中做出突出貢獻(xiàn)的獲獎(jiǎng)人員代表頒獎(jiǎng),華為總裁任正非發(fā)表了講話,部分參與座談的大學(xué)發(fā)布了座談紀(jì)要。任正非表示,在美國制裁華為這三年期間,華為完成 13000 + 型號(hào)器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復(fù)換板開發(fā)等,直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來,因?yàn)橛辛藝a(chǎn)的零部件供應(yīng)。任正非表示,華為現(xiàn)在還屬于困難時(shí)期,但在前進(jìn)的道路上并沒有停步。
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(2023.3.20)半導(dǎo)體周要聞-莫大康

  • 半導(dǎo)體一周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非:華為三年完成了13000型號(hào)器件的替代開發(fā)近日,華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎(jiǎng)?lì)C獎(jiǎng)典禮,為在解題揭榜中做出突出貢獻(xiàn)的獲獎(jiǎng)人員代表頒獎(jiǎng),華為總裁任正非發(fā)表了講話,部分參與座談的大學(xué)發(fā)布了座談紀(jì)要。任正非表示,在美國制裁華為這三年期間,華為完成 13000 + 型號(hào)器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復(fù)換板開發(fā)等,直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來,因?yàn)橛辛藝a(chǎn)的零部件供應(yīng)。任正非表示,華為現(xiàn)在還屬于困難時(shí)期,但在前進(jìn)的道路上并沒有停步
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納米壓印光刻,能讓國產(chǎn)繞過 ASML 嗎

  • 自從國產(chǎn)替代概念興起,很少關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的人都對(duì)光刻機(jī)有所耳聞。目前,全世界最先進(jìn)的芯片,幾乎都繞不開 ASML(阿斯麥)的 DUV(深紫外)和 EUV(極紫外)光刻機(jī),但它又貴又難造,除了全力研發(fā)光刻機(jī),國產(chǎn)有沒有其它的路可以走?事實(shí)上,光刻技術(shù)本身存在多種路線,離產(chǎn)業(yè)最近的,當(dāng)屬納米壓印光刻(Nano-Imprint Lithography,簡稱 NIL)。日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù),并試圖靠它再次逆襲,日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱,對(duì)比 EUV 光刻工藝,使用納米壓印光刻工藝制造芯片,能夠降低將近四成制造成本和
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國產(chǎn)光刻機(jī)的「行軍難」

  • 3 月 8 日,ASML 發(fā)表聲明回應(yīng)荷蘭政府即將出臺(tái)的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。ASML 稱,這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù),包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng),ASML 將需要申請(qǐng)出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強(qiáng)調(diào),這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。3 月 9 日,外交部例行記者會(huì)上,有媒體提問,據(jù)報(bào)道,荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會(huì)致函稱,出于國家安全考慮,荷蘭將于今年夏天之前對(duì)其芯片出口實(shí)施限制性措施。中方對(duì)此有何評(píng)論?外交部發(fā)言人毛
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佳能發(fā)布半導(dǎo)體光刻機(jī)新品 FPA-5550iX,可用于全畫幅 CMOS 制造等

  • IT之家 3 月 13 日消息,佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導(dǎo)體光刻機(jī)新產(chǎn)品 —— i 線步進(jìn)式光刻機(jī)“FPA-5550iX”,該產(chǎn)品能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn) 0.5μm(微米)高解像力與 50×50mm 大視場(chǎng)曝光。據(jù)介紹,新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn) 50×50mm 大視場(chǎng)及 0.5μm 高解像力曝光,在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領(lǐng)域中,使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時(shí),通過充分利用高解像力與大視場(chǎng)的優(yōu)勢(shì),“FPA-5550iX”也可應(yīng)用于頭戴式
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ASML堵了EUV光刻機(jī)的路,但國產(chǎn)光刻機(jī)有3大新方向

  • 眾所周知,當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī),甚至可以說很長一段時(shí)間內(nèi),全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機(jī),不會(huì)有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機(jī)的路堵住了,這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈,形成了捆綁關(guān)系,像蔡司等與ASML形成了利益共同體,EUV光刻機(jī)中,蔡司等廠商至關(guān)重要,掌握核心科技,缺少這些供應(yīng)鏈,其它廠商不可能制造出EUV光刻機(jī)。所以,目前眾多的其它光刻機(jī)企業(yè),并不打算走EUV光刻機(jī)這條路,在另尋它路。同樣的,國產(chǎn)光刻機(jī)基本上也走不通EUV這條路,只能另尋他路,而
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預(yù)計(jì)出貨國內(nèi)超100臺(tái)光刻機(jī),美國急不急?

  • 日前,ASML又正式官宣,2023年?duì)I收預(yù)計(jì)增長25%,預(yù)計(jì)國內(nèi)市場(chǎng)營收將會(huì)穩(wěn)定在22億歐元。數(shù)據(jù)顯示,一臺(tái)DUV光刻機(jī)的售價(jià)大約在2000萬美元,22億歐元大約可以購買超100臺(tái)DUV光刻機(jī),這意味著ASML預(yù)計(jì)今年向國內(nèi)出貨超100臺(tái)DUV光刻機(jī)。不管如此,ASML宣布到2025年,DUV光刻機(jī)產(chǎn)能將會(huì)達(dá)到600臺(tái),EUV光刻機(jī)產(chǎn)能達(dá)到90臺(tái),這意味著未來一段時(shí)間內(nèi),DUV光刻機(jī)仍是主力出貨設(shè)備。對(duì)此,就有外媒表示美國急不急?首先,光刻機(jī)是生產(chǎn)制造芯片的必要設(shè)備,也是美掌握為數(shù)不多的卡脖子設(shè)備,一旦光
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佳能推出晶圓測(cè)量機(jī)新品 MS-001:比光刻機(jī)精度更高,可提高生產(chǎn)效率

  • IT之家 2 月 21 日消息,在邏輯、存儲(chǔ)器、CMOS 傳感器等尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域,制造工藝日趨復(fù)雜,半導(dǎo)體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件,需要提高套刻的精度,因而曝光前要測(cè)量的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量點(diǎn)也越來越多。如果在半導(dǎo)體光刻機(jī)中對(duì)數(shù)量眾多的測(cè)量點(diǎn)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量的話,測(cè)量本身會(huì)非常耗時(shí),進(jìn)而就會(huì)降低半導(dǎo)體光刻機(jī)的生產(chǎn)效率。為此,半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進(jìn)了晶圓測(cè)量機(jī),將半導(dǎo)體光刻機(jī)的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量功能分離出來,以此來確保生產(chǎn)的高精度和效率。2 月 21 日,佳能推出了半導(dǎo)體制造用晶圓測(cè)量機(jī)“MS-001”,該
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淺析中美芯片博弈——美國加碼對(duì)華為禁令,ASML DUV光刻機(jī)對(duì)華出口或有變

  • 2019年,無論從那個(gè)角度來說,都是最好的一年。在那一年的智能手機(jī)消費(fèi)市場(chǎng)中,手機(jī)品牌競(jìng)爭(zhēng)激烈,紛紛拿出了不少產(chǎn)品力很強(qiáng)的產(chǎn)品,三星、華為、蘋果分別位列全球前三。這一年,是手機(jī)市場(chǎng)巔峰,也是華為最強(qiáng)盛的時(shí)期,這一年,華為全年智能手機(jī)出貨量高達(dá)2.4億臺(tái),超越蘋果,緊逼三星;這一年,華為的營收高達(dá)8588億人民幣,其中智能手機(jī)為主的消費(fèi)者業(yè)務(wù)貢獻(xiàn)了4673億人民幣,占到了一半以上的營收比例,是華為最大的營收來源,賺錢能力強(qiáng)。可也就是這一年,美國開始了對(duì)華貿(mào)易戰(zhàn),開始了對(duì)于華為的全面打壓,首先,谷歌禁止了華為
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光刻機(jī)龍頭ASML公布2022全年財(cái)報(bào)佳績,預(yù)計(jì)2023年凈銷售額同比增長超25%

  • 當(dāng)?shù)貢r(shí)間,2023年1月25日,荷蘭光刻機(jī)龍頭ASML發(fā)布了2022年第四季度和全年業(yè)績。2022年第四季度的凈銷售額為64億歐元,達(dá)到了預(yù)期目標(biāo)區(qū)間中位,毛利率為51.5%,高于預(yù)期。同時(shí),毛利率還受到去年ASML柏林工廠火災(zāi)導(dǎo)致的額外升級(jí)和保險(xiǎn)賠償影響。2022年全年ASML總凈銷售額為212億歐元,毛利率為50.5%,凈利潤為56億歐元。另外,2022年底,ASML未交付訂單創(chuàng)下歷史新高,達(dá)404億歐元,該年總共銷售317臺(tái)新光刻機(jī),較前一年增長31臺(tái),此外還出貨了28臺(tái)二手光刻機(jī)。展望未來,ASM
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光刻機(jī)關(guān)鍵原料氖氣價(jià)格暴漲20倍 中企出手后:降下來了

  • 芯片制造離不開光刻機(jī),數(shù)據(jù)顯示,全球晶圓制造材料中的第一大耗材是硅片,第二大就是電子特氣。以光刻為例,需要的電子特氣就包括氖氣、氬氣、氪氣、氙氣等幾種稀有氣體。這是因?yàn)楣饪虤怏w是光刻機(jī)產(chǎn)生激光的光源,難以取代。其中氖氣主要用于深紫外光刻領(lǐng)域,服務(wù)1x nm到180nm芯片的加工。因?yàn)闉蹩颂m占全球氖氣供應(yīng)比例高達(dá)70%,所以去年一度,氖氣的價(jià)格飆升了20倍。不過來自TheElec的報(bào)道稱,氖氣的價(jià)格已經(jīng)明顯下跌,這主要是因?yàn)橹袊㈨n國等供應(yīng)商的加入。
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EUV光刻機(jī)開始“落幕”了

  • 說到光刻機(jī)大家難免會(huì)想到三個(gè)廠商,荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機(jī)就是制造芯片的核心裝備。現(xiàn)如今光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML,他與臺(tái)積電合作,共同突破了沉浸式DUV光刻機(jī),也正因?yàn)榇藙?dòng)作,才奠定了ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機(jī),而且還是獨(dú)家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展,市場(chǎng)就要越來越追求高性能以及高要求,ASLM造成的長時(shí)間壟斷,導(dǎo)致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下,他的路是越走越窄。在全球范
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三星擬新設(shè)至少10臺(tái)EUV光刻機(jī):展露要當(dāng)世界第一的野心

  • 最新消息顯示,盡管全球經(jīng)濟(jì)將放緩,但三星仍計(jì)劃擴(kuò)大DRAM與晶圓代工的晶圓產(chǎn)能,明年在其P3晶圓廠新設(shè)至少10臺(tái)極紫外光刻設(shè)備(EUV),用于生產(chǎn)最新的12nm級(jí)內(nèi)存芯片,而三星目前僅有40臺(tái)EUV光刻機(jī)。
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消息稱光刻機(jī)巨頭 ASML 臺(tái)灣地區(qū)新工廠明年 7 月動(dòng)工

  • IT之家 12 月 7 日消息,據(jù)臺(tái)灣地區(qū)經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,光刻機(jī)巨頭 ASML 將擴(kuò)大在臺(tái)灣地區(qū)的投資。ASML 臺(tái)灣地區(qū)新工廠預(yù)計(jì)將在明年 7 月動(dòng)工,是該公司在當(dāng)?shù)氐淖畲笸顿Y,并計(jì)劃把歐洲供應(yīng)鏈帶到臺(tái)灣地區(qū)。臺(tái)媒指出,ASML 帶來的歐洲供應(yīng)鏈將會(huì)落地林口工一研發(fā)中心、桃園龜山兩處,未來不排除以相同模式陸續(xù)在新竹、臺(tái)中、臺(tái)南落地。此外,ASML 帶來的主要為設(shè)備維修及組裝。數(shù)據(jù)顯示,2022 年第三季度,ASML 實(shí)現(xiàn)了凈銷售額 58 億歐元(約 425.72 億元人民幣),毛利率為
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三星首次引進(jìn)本土生產(chǎn)光刻膠,日本稱霸該市場(chǎng)

  • 12 月 4 日消息,據(jù) ETNews 消息,三星電子首次引入東進(jìn)世美肯半導(dǎo)體的光刻膠進(jìn)入其量產(chǎn)線,這也是三星進(jìn)行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。不過考慮到三星與海外光刻膠供應(yīng)商的關(guān)系,目前具體產(chǎn)量尚不清楚,且三星是否會(huì)額外引進(jìn)其他品種的光刻膠也并沒有得到回應(yīng)。報(bào)道稱,三星電子已將韓國公司開發(fā)的用于高科技工藝的極紫外光刻膠(PR)引入其大規(guī)模生產(chǎn)線。2019 年 7 月,日本方面宣布限制向韓國出口包括含氟聚酰亞胺、光刻膠以及高純度氟化氫在內(nèi)的三項(xiàng)重要半導(dǎo)體及 OLED 面板原材料,經(jīng)過三年的努力,韓國實(shí)現(xiàn)了光刻
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光刻機(jī)介紹

國外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī),300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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