- 作為國內最先進的晶圓代工廠,中芯國際SMIC去年底已經量產了14nm工藝,Q1季度14nm工藝貢獻了1.3%的營收,預計到明年將貢獻10%的營收。中芯國際14nm工藝一大重要進展就是成功為華為代工麒麟710A處理器,四顆A73+四顆A53八核心設計,主頻2.0GHz,已經用于榮耀4T系列手機上。在14nm之外,中芯國際還有基于14nm工藝的12nm工藝改良版,此前官方表示12nm工藝比14nm晶體管尺寸進一步縮微,功耗降低20%、性能提升10%,錯誤率降低20%,目前已經啟動試生產,與客戶展開深入合作,進
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中芯國際 7nm 光刻機
- 作為半導體行業最重要的生產設備，光刻機實在太重要了，整個芯片生產1/3的時間及成本都耗費在光刻上，EUV光刻機更是只有荷蘭ASML一家公司能產，單臺售價超過10億美元，這個生意一般人做不了。半導體工藝在7nm及以上的時候，不用EUV光刻機也能制造，就是成本有點高。目前對EUV光刻機有需求的廠商就三個——Intel、臺積電、三星，其中后兩家的EUV工藝已經量產，Intel的要到2021年7nm工藝上才會用到EUV光刻機。那這三家公司對EUV光刻機有多少需求？根據ASML提供的計算方式，每月4.5萬片晶圓、一
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Intel 臺積電 三星 光刻機
- 據外媒報道，由于擔心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺積電的半導體設備供應商ASML宣布撤回2020年第二季度的業績預期。不過，這家生產極紫外線(EUV)光刻設備的荷蘭公司補充說，該公司的設備訂單依然強勁，需求也沒有變化。ASML首席執行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說：“需求前景沒有變化，今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當前形勢充滿挑戰，但到目前為止，我們能夠繼續保持正常業務。”但溫寧克補充說：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發展、終端市場、我們的制造能力以及
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光刻機 ASML
- 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多個行業的生產、消費都受到影響了,半導體行業也不例外。ASML公司今天宣布下調Q1季度營收預期,同時暫停股票回購,不過他們沒公布EUV光刻機出貨量是否受影響了。今年1月份ASML公司發布了2019年Q4及全年財報,2019年交付了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前預計營收31到33億歐元之間,毛利率46%到47%之間,研發費用約為5.5億歐
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阿斯麥 光刻機 極紫外光刻
- 只有引入EUV技術的6nm才是真正的6nm，而這項技術也將伴隨未來可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
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EUV 6nm 光刻機
- 近年來,雖然中國在芯片設計領域有了突飛猛進的發展,涌現出了一批以華為海思為代表的優秀的芯片設計企業,但是在芯片制造領域,中國與國外仍有著不小的差距。不僅在半導體制程工藝上落后國外最先進工藝近三代,特別是在芯片制造所需的關鍵原材料方面,與美日歐等國差距更是巨大。即便強大如韓國三星這樣的巨頭,在去年7月,日本宣布限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關鍵原材料對韓國的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如熱鍋上的螞蟻,卻又無可奈何。最后還是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危機。而在美國制裁中興
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CPU處理器 光刻機 光刻膠
- 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創造了新紀錄。據報道,ASML公司正在研發新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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光刻機 極紫外光刻
- 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創造了新紀錄。據報道,ASML公司正在研發新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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光刻機 極紫外光刻
- 半導體器件被廣泛應用于從智能手機到汽車等各個領域，在其制造過程中半導體光刻機必不可少。你知道嗎，日本首臺半導體光刻機發售已經50周年了。今日，佳能中國宣布，佳能產日本首臺半導體光刻機PPC-1發售50周年。佳能PPC-1于1970年發售，隨著數字技術的迅速發展，佳能的半導體光刻機也在不斷升級。首臺日本產半導體光刻機PPC-1據悉，佳能光刻機的歷史始于對相機鏡頭技術的高度應用。靈活運用20世紀60年代中期在相機鏡頭開發中積累的技術，佳能研發出了用于光掩膜制造的高分辨率鏡頭。此后，為了進一步擴大業務范圍，佳能
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佳能 光刻機
- 日前，浙江海寧市舉行2020年1月“雙招雙引”項目集中簽約儀式，17個項目落戶海寧，總投資達24億元。
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光刻機 浙江海寧 集成電路
- 12月22日，位于湖北武漢的弘芯半導體發布公告，該廠為首臺高端光刻機設備進廠舉行了隆重的進廠儀式，雖然官方沒有公布具體信息，但可以確定是一臺ASML的高端光刻機，售價也是數千萬美元級別的。根據湖北媒體之前的報道，弘芯半導體制造產業園是2018年武漢單個最大投資項目，位于臨空港經濟技術開發區臨空港大道西側，規劃用地面積636畝，建筑面積65萬平方米，總投資1280億元。該項目2017年已投入建設資金520億元，2018年第二期項目再投資760億元，擬建設芯片生產制造基地及配套企業。項目計劃于2019年上半年
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阿斯麥 光刻機
- 在半導體工藝進入10nm節點之后，制造越來越困難，其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題，EUV技術研發步入正軌。前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應EUV光刻機，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。中芯國際董事長周子學日前在韓國訪問，韓媒報道稱周子學表態已經解決了與ASML之間就光刻機供應存在的問題，強調中芯國際在先進
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光刻機 極紫外光刻
- 近年來，隨著國家的大力支持以及國內市場需求的快速增長，國產半導體產業發展迅猛，而在關鍵的國產半導體設備領域也有了不小的進步。比如在硅刻蝕機領域，北方華創實現了14nm設備的突破，同時也在去年實現了適用于8英寸晶圓的金屬刻蝕機的研發和生產。已經登錄科創板的中微半導體自主研發的5nm等離子體刻蝕機經臺積電驗證，性能優良，將用于全球首條5nm制程生產線。但是在晶圓制造環節更為關鍵的光刻機領域，卻仍與國外有著巨大的差距。目前荷蘭的ASML是全球最大的光刻機制造商，占據了全球光刻機市場（按銷售計）的近90%的市場份
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阿斯麥 光刻機
- 據報道，第二期國家集成電路產業投資基金——也就是大基金，已經在10月22日注冊成立，注冊資本高達2041.5億元，比第一期的1387.2億元高出一半多，最快11月份開始投資，這次投資重點是半導體裝備及材料行業。為了推動半導體行業投資，2014年國務院發布《國家集成電路產業發展推進綱要》，提出要設立國家產業投資基金。2014 年9月24日，國家財政部、國開金融、中國煙草、亦莊國投、中國移動、上海國盛、中國電子、中國電科、華芯投資等共同發起“國家集成電路產業投資基金”，這就是俗稱的大基金。目前，國家
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光刻機
- AI、5G應用推動芯片微縮化，要實現5nm、3nm等先進制程，意味著需要更新穎的技術支援以進行加工制造，半導體設備商遂陸續推出新一代方案。AI、5G應用推動晶片微縮化，要實現5nm、3nm等先進制程，意味著需要更新穎的技術支援以進行加工制造，為此，艾司摩爾(ASML)持續強化極紫外光(EUV)微影系統效能。艾司摩爾(ASML)資深市場策略總監Boudewijn Sluijk表示，VR/AR、自動駕駛、5G、大數據及AI等，持續推動半導體產業發展，為滿足各式應用、資料傳輸，以及演算法需求，芯片效能不斷提高的
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光刻機介紹
國外半導體設備
我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
如您感興趣請登錄以下網站或Email:
網址:http://www.loadpoint.com.cn
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