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碳化硅 mosfet 文章 最新資訊

第三代半導體頭部企業基本半導體完成C4輪融資,全力加速產業化進程

  • 2022年9月20日,國內第三代半導體碳化硅頭部企業——基本半導體完成C4輪融資,由新股東德載厚資本、國華投資、新高地等機構聯合投資,現有股東屹唐長厚、中美綠色基金等機構繼續追加投資。本輪融資將用于進一步加強碳化硅產業鏈關鍵環節的研發制造能力,提升產能規模,支撐碳化硅產品在新能源汽車、光伏儲能等市場的大規模應用,全方位提升基本半導體在碳化硅功率半導體行業的核心競爭力。這是基本半導體在今年完成的又一輪融資。6月和7月,該公司分別完成了C2和C3輪兩輪融資。連續多輪資本的加持,充分印證了基本半導體在業務加速拓
  • 關鍵字: 基本半導體  代半導體  碳化硅  

第三代半導體擴產,硅的時代要結束了嗎

  • 半導體寒氣襲人知誰暖?芯片行業的砍單潮已經將寒氣傳遞給了眾多企業,三星半導體部門負責人Kyung Kye-hyun就預計芯片銷售大幅下滑態勢將延續至明年;野村證券最近也將今年全球芯片出貨成長率由原先預估的9.9%大砍至5.7%、2023年由衰退0.5%擴大至衰退6%;費城半導體指數 (SOX)近6個月(截至9月21日)更是跌了26.53%。但此時,以碳化硅、氮化鎵為代表的第三代半導體材料卻在迎來市場倍增與產能擴張。 安森美二季度財報發布后,就將其2022年碳化硅營收預期上調為“同比增長3倍”,而
  • 關鍵字: 碳化硅  氮化鎵  

測量SiC MOSFET柵-源電壓時的注意事項:一般測量方法

  • SiC MOSFET具有出色的開關特性,但由于其開關過程中電壓和電流變化非常大,因此如Tech Web基礎知識 SiC功率元器件“SiC MOSFET:橋式結構中柵極-源極間電壓的動作-前言”中介紹的需要準確測量柵極和源極之間產生的浪涌。在這里,將為大家介紹在測量柵極和源極之間的電壓時需要注意的事項。我們將以SiC MOSFET為例進行講解,其實所講解的內容也適用于一般的MOSFET和IGBT等各種功率元器件,盡情參考。本文的關鍵要點?如果將延長電纜與DUT引腳焊接并連接電壓探頭進行測量,在開關速度較快時
  • 關鍵字: 羅姆半導體,MOSFET  

東芝推出面向更高效工業設備的第三代SiC MOSFET

  • 東芝電子元件及存儲裝置株式會社(“東芝”)今日宣布,推出新款功率器件---第三代碳化硅(SiC)MOSFET[1][2]“TWxxNxxxC系列”。該系列具有低導通電阻,可顯著降低開關損耗。該系列10款產品包括5款1200V產品和5款650V產品,已于今日開始出貨。  新產品的單位面積導通電阻(RDS(ON)A)下降了大約43%[3],從而使“漏源導通電阻×柵漏電荷(RDS(ON)×Qgd)”降低了大約80%[4],這是體現導通損耗與開關損耗間關系的重要指標。這樣可以將開關損耗減少大約
  • 關鍵字: 東芝  SiC MOSFET  

Nexperia發布具備市場領先效率的晶圓級12和30V MOSFET

  • 基礎半導體器件領域的高產能生產專家Nexperia今天宣布推出PMCB60XN和PMCB60XNE 30V N溝道小信號Trench MOSFET,該產品采用超緊湊晶圓級DSN1006封裝,具有市場領先的RDS(on)特性,在空間受限和電池續航運行至關重要的情況下,可使電力更為持久。新型MOSFET非常適合智能手機、智能手表、助聽器和耳機等高度小型化電子產品,迎合了更智能、功能更豐富的趨勢,滿足了增加系統功耗的需求。 RDS(on)與競爭器件相比性能提升了25%,可最大限度降低能耗,提高負載開關
  • 關鍵字: Nexperia  晶圓級  MOSFET  

單片驅動器+ MOSFET (DrMOS)技術如何改善電源系統設計

  • 本文介紹最新的驅動器+ MOSFET (DrMOS)技術及其在穩壓器模塊(VRM)應用中的優勢。單片DrMOS器件使電源系統能夠大幅提高功率密度、效率和熱性能,進而增強最終應用的整體性能。引言隨著技術的進步,多核架構使微處理器在水平尺度上變得更密集、更快速。因此,這些器件需要的功率急劇增加。微處理器所需的這種電源由穩壓器模塊(VRM)提供。在該領域,推動穩壓器發展的主要有兩個參數。首先是穩壓器的功率密度(單位體積的功率),為了在有限空間中滿足系統的高功率要求,必須大幅提高功率密度。另一個參數是功率轉換效率
  • 關鍵字: ADI  MOSFET  電源系統設計  

功率半導體組件的主流爭霸戰

  • 功率半導體組件與電源、電力控制應用有關,特點是功率大、速度快,有助提高能源轉換效率,多年來,功率半導體以硅(Si)為基礎的芯片設計架構成為主流,碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等第三類半導體材料出現,讓功率半導體組件的應用更為多元,效率更高。MOSFET與IGBT雙主流各有痛點高功率組件應用研發聯盟秘書長林若蓁博士(現職為臺灣經濟研究院研究一所副所長)指出,功率半導體組件是電源及電力控制應用的核心,具有降低導通電阻、提升電力轉換效率等功用,其中又以MOSFET(金屬氧化半導體場效晶體管)與IGBT(絕緣
  • 關鍵字:   碳化硅  氮化鎵  功率半導體  

碳化硅助力電動汽車的續航和成本全方位優化

  • 與傳統的硅器件相比,碳化硅(SiC)器件由于擁有低導通電阻特性以及出色的耐高溫、高頻和耐高壓性能,已經成為下一代低損耗半導體可行的候選器件。此外,SiC 讓設計人員能夠減少元器件的使用,從而進一步降低了設計的復雜程度。SiC 元器件的低導通電阻特性有助于顯著降低設備的能耗,從而有助于設計出能夠減少 CO2 排放量 的環保型產品和系統。羅姆在 SiC 功率元器件和模塊的 開發領域處于先進地位,這些器件和模塊在許多行業的 應用中都實現了更佳的節能效果。水原德健, 羅姆半導體(北京)有限公司技術中心總經理
  • 關鍵字: 202207  碳化硅  電動汽車  羅姆  

碳化硅助力電動汽車續航和成本的全方位優化

  • 受訪人:水原德健  羅姆半導體(北京)有限公司技術中心總經理1.氮化鎵和碳化硅同屬第三代半導體,在材料特性上有什么相似之處和不同之處?根據其不同的特性,分別適用在哪些應用領域?貴公司目前在SiC和GaN兩種材料的半導體器件方面都有哪些主要的產品?  目前,市場上基本按下圖劃分幾種材料功率半導體器件的應用場景。當低頻、高壓的情況下適用硅基IGBT,如果稍稍高頻但是電壓不是很高,功率不是很高的情況下,使用硅基MOSFET。如果既是高頻又是高壓的情況下,適用碳化硅MOSFET。那么電壓不需要很大,功率
  • 關鍵字: 羅姆  電動汽車  碳化硅  

賽米控與羅姆就碳化硅功率元器件展開新的合作

  • 賽米控(總部位于德國紐倫堡)和全球知名半導體制造商羅姆(總部位于日本京都市)在開發碳化硅(SiC)功率模塊方面已經開展了十多年的合作。合作儀式剪影:賽米控CEO兼CTO? Karl-Heinz Gaubatz先生(左)羅姆德國公司社長?Wolfram Harnack(中)賽米控CSO Peter Sontheimer先生(右) 此次,羅姆的第4代SiC MOSFET正式被用于賽米控的車規級功率模塊“eMPack?”,開啟了雙方合作的新征程。此外,賽米控宣布已與德國一家大型汽車制造商簽署
  • 關鍵字: 羅姆  碳化硅  SiC  無線寬帶  

Nexperia發布超小尺寸DFN MOSFET

  • 基礎半導體器件領域的高產能生產專家Nexperia今天宣布推出采用超小DFN封裝的新系列20 V和30 V MOSFET DFN0603。Nexperia早前已經提供采用該封裝的ESD保護器件,如今更進一步,Nexperia成功地將該封裝技術運用到MOSFET產品組合中,成為行業競爭的領跑者。該系列小型MOSFET包括: ?新一代可穿戴設備和可聽戴設備正在融入新的人工智能(AI)和機器學習(ML)技術,這為產品設計帶來了若干挑戰。首先,隨著功能的增加,可供使用的電路板空間變得十分寶貴,另外,隨著
  • 關鍵字: Nexperia  MOSFET  

豪威集團發布業內最低內阻雙N溝道MOSFET

  • 電源管理系統要實現高能源轉換效率、完善可靠的故障保護,離不開高性能的開關器件。近日,豪威集團全新推出兩款MOSFET:業內最低內阻雙N溝道MOSFET WNMD2196A和SGT 80V N溝道MOSFET WNM6008。  WNMD2196A 超低Rss(ON),專為手機鋰電池保護設計近幾年,手機快充技術飛速發展,峰值充電功率屢創新高。在極大地緩解消費者電量焦慮的同時,高功率充電下的安全問題不容小覷。MOSFET在電池包裝中起到安全保護開關的作用,其本身對功率的損耗也必須足夠低才能
  • 關鍵字: 豪威集團  MOSFET  

分立式CoolSiC MOSFET的寄生導通行為研究

  • 米勒電容引起的寄生導通常被認為是碳化硅MOSFET的弱點。為了避免這種效應,硬開關逆變器通常采用負柵極電壓關斷。但是,這對于CoolSiC?MOSFET真的是必要的嗎?引言選擇適當的柵極電壓是設計所有柵極驅動電路的關鍵。憑借英飛凌的CoolSiC?MOSFET技術,設計人員能夠選擇介于18V和15V之間的柵極開通電壓,從而使器件具有極佳的載流能力或者可靠的短路耐用性。另一方面,柵極關斷電壓僅需確保器件保持安全關斷即可。英飛凌鼓勵設計人員在0V下關斷分立式MOSFET,從而簡化柵極驅動電路。為此,本文介紹了
  • 關鍵字: 英飛凌   MOSFET  

具備出色穩定性的CoolSiC MOSFET M1H

  • 過去幾年,實際應用條件下的閾值電壓漂移(VGS(th))一直是SiC的關注重點。英飛凌率先發現了動態工作引起的長期應力下VGS(th)的漂移現象,并提出了工作柵極電壓區域的建議,旨在最大限度地減少使用壽命內的漂移。[1]。引言過去幾年,實際應用條件下的閾值電壓漂移(VGS(th))一直是SiC的關注重點。英飛凌率先發現了動態工作引起的長期應力下VGS(th)的漂移現象,并提出了工作柵極電壓區域的建議,旨在最大限度地減少使用壽命內的漂移。[1]。經過不斷研究和持續優化,現在,全新推出的CoolSiC? MO
  • 關鍵字: 英飛凌  MOSFET  

SiC設計干貨分享(一):SiC MOSFET驅動電壓的分析及探討

  • 隨著制備技術的進步,在需求的不斷拉動下,碳化硅(SiC)器件與模塊的成本逐年降低。相關產品的研發與應用也得到了極大的加速。尤其在新能源汽車,可再生能源及儲能等應用領域的發展,更是不容小覷。富昌電子(Future Electronics)一直致力于以專業的技術服務,為客戶打造個性化的解決方案,并縮短產品設計周期。在第三代半導體的實際應用領域,富昌電子結合自身的技術積累和項目經驗,落筆于SiC相關設計的系列文章。希望以此給到大家一定的設計參考,并期待與您進一步的交流。作為系列文章的第一部分,本文將先就SiC
  • 關鍵字: 富昌電子  SiC  MOSFET  
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碳化硅 mosfet介紹

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