近日光刻機巨頭ASML發布公告稱，去年2型DUV光刻機已獲準的出口許可證突然遭到撤銷，不過，中國大陸客戶預付購買DUV光刻機所積壓訂單基本都已完成交付。

據ASML指出，2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系統的出貨許可證突然被撤銷，不過這沒有太多可以擔心的地方，因為2023年ASML基本已交付了中國大陸客戶預付的DUV積壓訂單，至于2023年之后是否能繼續出口DUV光刻，在此之前本就無法確定。

《快科技》報導說，事實上2023年ASML一直都在向中國客戶供應光刻機，其中就包含了NXT:2000i和更先進的DUV型號的產品。至于更先進的7nm以下更先進的EUV光刻機，ASML依然不能對中國客戶出售。

據ASML官網提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機產品共有3款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

報導說，ASML官網上關于TNXT:1980Di介紹中指出，它在分辨率方面不小于38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光分辨率，事實上光刻機是可以進行多次曝光。

至于DUV是否能進行7nm以下更先進的制程？據臺積電前研發副總林本堅（Burn Lin）表示，依靠ASML的DUV光刻機，是可以繼續將制程工藝從7nm再推向5nm，但要付出非常高昂的代價，至少需要進行4重曝光，耗時而且價格昂貴，還會影響整體良率。DUV最多可以做6重曝光，實現更先進的工藝，但問題與困難也會更多。