ASML 是一家荷蘭巨頭，幾乎壟斷了先進人工智能芯片所必需的極紫外 （EUV） 光刻機，它處于有利地位，可以利用數據中心的激增。然而，由于 2026 年增長不確定的警告，其股價在過去一年中僅上漲了 11%，表現落后于同行。核心問題：依賴少數主要客戶，其中以控制先進芯片生產的臺積電（臺積電）為主。ASML 依靠芯片制造商之間的競爭而蓬勃發展，這些競爭刺激了設備升級，但臺積電的領先優勢扼殺了這種動力。

ASML 的最新創新高數值孔徑 （High NA） EUV 機器每臺成本超過 4 億美元，承諾為更小、更高效的芯片提供單圖案化，與舊 EUV 上的多圖案化相比，可降低復雜性、周期時間和缺陷。然而，臺積電猶豫不決，理由是前期成本高昂，并計劃延長當前工具的使用壽命，直到高數值孔徑成熟以獲得最大價值。巴克萊銀行分析師西蒙·科爾斯 （Simon Coles） 預測 2026 年高數值孔徑 （High NA） 出貨量僅為 3 臺（低于 2025 年的 5 臺），廣泛采用將推遲到 2028 年;他將 ASML 評為持有。

英特爾成為 ASML 的潛在救世主，在通過推遲 EUV 的采用落后于臺積電后尋求救贖。前首席執行官帕特·基辛格 （Pat Gelsinger） 承諾推出兩臺 High NA 機器，通過英特爾的 18A 工藝在人工智能芯片代工服務方面挑戰臺積電。然而，英特爾面臨著障礙：掌握 EUV 產量、生態系統準備情況、成本競爭力以及獲得英偉達和博通等外部客戶。最近圍繞英偉達對英特爾投資 50 億美元的炒作推動了 ASML 股價上漲 6%，但英偉達首席執行官黃仁勛回避了有關使用英特爾晶圓廠的問題，稱贊臺積電在復雜 GPU 方面的優勢。尼古拉斯·巴拉特 （Nicolas Baratte） 等分析師質疑，如果臺積電認為沒有必要，英特爾是否需要更昂貴的高 NA。英特爾在俄勒岡州有兩臺機器正在研發，但不會確認生產時間表，而且它可能會在沒有主要客戶的情況下廢棄其 14A 工藝，從而危及美國半導體的雄心。

存儲芯片提供了另一種途徑。由于堆疊技術和成本關注，EUV 采用的邏輯滯后，該行業正在隨著對 Nvidia AI 處理器的高帶寬內存 （HBM） 需求而發生變化。SK 海力士處于領先地位，組裝了第一個用于大規模生產的高 NA 系統，以滿足擴展需求。競爭對手三星于 2 月份采用了 High NA 進行內存和代工工作，迫使美國美光效仿。
最終，ASML 的卓越技術無法保證在客戶主導地位下快速獲勝。高 NA 將變得不可或缺，但隨著行業權衡成本與未來收益，投資者可能會忍受延誤。