- 5月25日消息，據外媒報道稱，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克指出，該設備可確保生產350nm（0.35μm）的芯片。圖片來源：塔斯社報道截圖公開資料顯示，350納米尺寸芯片在當代較為落后，但是仍然可以應用于汽車、能源和電信等多個行業。該光刻機的研制成功對于俄羅斯未來實現自主生產芯片具有里程碑意義。圖片來源：全球半導體觀察制圖目前，全球光刻機的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。據外媒公開消息，俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠，分別是Mikron
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- 據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產光刻機，作為澤廖諾格勒技術生產線的一部分，目前正在對其進行測試，該設備可確保生產350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產光刻機，下一步將是開發90nm光刻機，并繼續向下邁進。此前，俄羅斯曾表示，計劃到2026年實現65nm的芯片節點工藝，2027年實現28nm本土芯片制造，到2030年實現14nm國產芯片制造。
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- 上個月英特爾晶圓代工宣布完成了業界首臺High-NA EUV光刻機組裝工作。隨后開始在Fab D1X進行校準步驟，為未來工藝路線圖的生產做好準備。
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- IT之家 4 月 19 日消息，英特爾今日宣布其已在位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的 Fab D1X 研發晶圓廠完成世界首臺商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻機的組裝工作，目前已進入光學系統校準階段。▲ 圖源英特爾新聞稿這臺光刻機型號 TWINSCAN EXE:5000，為 ASML 的首代 High NA EUV 光刻機，價值約 3.5 億美元（IT之家備注：當前約 25.38 億元人民幣）。就在不久前 ASML 宣布其在荷蘭埃因霍溫總部的另一臺 High NA EUV 光刻機成功
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- 4月19日消息，光刻機制造商ASML的CEO公開表示，沒有理由不為中國客戶提供售后服務。荷蘭芯片設備制造商阿斯麥（ASML）周三發布的財報顯示，第一季度凈預訂量從去年第四季度的92億歐元降至36億歐元。阿斯麥首席財務官達森稱，中國客戶約占公司積壓訂單的20%。“中國的需求很強勁。其產能增加是合理的，并且符合本世紀后半段的全球需求。”“目前，沒有什么能阻止我們為中國客戶已經購買的產品提供服務”，溫寧克稱。外媒表示，阿斯麥是歐洲市值最高的科技公司，而它現在已經成為美國政府用以遏制中國芯片產業發展的靶子。近日，
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- IT之家 4 月 18 日消息，荷蘭半導體設備制造商阿斯麥（ASML）近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺高數值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機。這臺高端光刻機旨在制造比當前低 NA EUV 設備所能制造的更高密度的芯片。據路透社報道，第二臺高端光刻機的出貨意味著這一最新技術正逐漸被采用。然而，ASML 對買家身份諱莫如深，只能猜測其身份，路透社指出英特爾、臺積電和三星都是潛在客戶。事實上，英特爾已經購買了首臺高數值孔徑 EUV 光刻機，用于其即將推出的 14A 制程節點。正如 A
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- 4月18日消息，ASML公開表示，將繼續為中國大陸廠商提供設備維修服務。此前有消息稱，美國計劃向荷蘭施壓，試圖阻止ASML在中國提供部分設備的維修服務。在業績電話會上，ASML首席執行官溫寧克回應稱，“目前沒有什么可以阻止我們為在中國大陸安裝的設備提供服務。”光刻機是制造芯片的關鍵設備，中國大陸是ASML的第二大市場。因此，這種限制可能對中國的晶圓制造商產生重大影響，特別是對于維護產線穩定運行所必需的光刻機核心部件的供應和維護。之前外界擔心，受限的光刻機主要是NXT:2000i及更先進的機型，而其他未受限
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- 3月27日消息，據外媒報道，為留住光刻機設備巨頭阿斯麥（ASML）繼續在荷蘭發展，荷蘭政府計劃向ASML注入至少10億歐元資金。本月初，荷蘭當地報紙De Telegraaf揭露，ASML計劃將公司搬離荷蘭。報道指出，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國是選擇之一。根據荷蘭通訊社的消息，荷蘭政府為此專門成立了一個名為“貝多芬行動”的特別工作小組，由首相馬克·呂特親自領導，旨在與ASML進行協商以解決其對荷蘭當地勞動力供應、法規政策和供應鏈安全的擔憂。最新消息指出，荷蘭政府計
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- 3 月 27 日消息，據荷蘭媒體 Bits&Chips 報道，ASML 官方確認新款 0.33NA EUV 光刻機 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機的技術，運行效率得以提升。根據IT之家之前報道，NXE:3800E 光刻機已于本月完成安裝，可實現 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較以往機型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技術 High-NA（高數值孔徑） EUV 采用了更寬的光錐，這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬，會導致影響晶圓吞吐量的光損失。
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- 芯片制造商需要速度。在科技日新月異的今天，芯片制造技術的不斷革新成為了推動科技進步的關鍵力量。作為光刻技術的領軍企業，ASML近日發布的第三代EUV光刻機——Twinscan NXE：3800E，無疑為全球芯片制造業帶來了新的希望與機遇。更加先進的光刻機出現，不僅代表著ASML在光刻技術領域的又一次突破，更將助力芯片制造商實現2nm處理器制造的飛躍。又一“神器”出現ASML，作為全球領先的光刻機制造商，不用過多介紹。此次發布的Twinscan NXE：3800E光刻機，是ASML在EUV光刻技術領域的又一
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- 據路透社報道，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領導，以確保ASML繼續在荷蘭發展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內陸網絡，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經濟高度依賴國際貿易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
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- ASML作為半導體行業的全球供應商，在科技領域不斷創新，為客戶提供包括光刻機、計算光刻和量測在內的"鐵三角"全景光刻解決方案。同時，公司也將人才視為追"芯"之旅的中堅力量，致力于通過挑戰求精（Challenge）、合作共進（Collaborate）、關愛致遠（Care）為特征的"3C文化"，以及"財務、身體、心理、社交和職業發展"這五大健康維度，幫助人才解鎖閃耀"芯"途。本期，優興咨詢特邀ASML中國區人力
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- 預計 2024 年將是 ASML 過渡的一年，銷售額與 2023 年相似。
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- 2 月 2 日消息，ASML 首席財務官 Roger Dassen 近日接受了荷蘭當地媒體 Bits&Chips 的采訪。在采訪中，Dassen 回應了分析機構 SemiAnalysis 的質疑，表示 High-NA（高數值孔徑）EUV（極紫外光）光刻機仍是未來最經濟的選擇。SemiAnalysis 之前刊發文章，認為 High-NA 光刻技術將使用更高的曝光劑量，從而明顯降低單位時間內的晶圓吞吐量。這就意味著，相較于沿用現有的 0.33NA EUV 光刻機并搭配多重曝光，引入 Hig
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- IT之家 1 月 24 日消息，光刻機巨頭 ASML 今日公布了 2023 年第四季度和全年業績：2023 年第四季度凈銷售收入 72.37 億歐元（IT之家備注：當前約 563.76 億元人民幣），預期 69.3 億歐元，毛利率 51.4%，凈利潤 20.48 億歐元（當前約 159.54 億元人民幣）；第四季度凈預訂額為 92 億歐元（當前約 716.68 億元人民幣），其中 EUV 光刻機預訂額為 56 億歐元（當前約 436.24 億元人民幣）。2023 年凈銷售收入 275.
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我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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