臺積電公司領導林本堅近日表示，公司規劃的28納米制程最快可望在今年第4季度小批量生產，并預估產量將在明年擴大。

　　林本堅表示，28納米制程采用多重曝影(multi patterning)的浸潤式(immersion)微影技術，并且公司正在進行20納米技術的研發，未來14納米將嘗試導入極紫外光(EUV)或多重電子束 (MEB)等新技術，臺積電目前已加入Sematech，針對20納米以下半導體制程的相關技術進行合作研發。

　　事實上，臺積電董事長張忠謀早先就曾透露，臺積電正緊密觀察移動終端的市場變化，如今智能手機、平板電腦等產品逐漸向輕薄、低耗能發展已是明顯趨勢，公司在進軍市場與持續穩健成長上皆需要仰仗28納米制程。