荷商艾司摩爾（ASML）是半導體設備巨頭，臺積電等龍頭公司制造先進芯片，都需采用ASML制造商生產的昂貴極紫外光曝光機（EUV），根據《Tom's Hardware》報導，日本科學家已開發出簡化的EUV掃描儀，可以大幅降低芯片的生產成本。

報導指出，沖繩科學技術學院（OIST）Tsumoru Shintake教授提出一種全新、大幅簡化的EUV曝光機，相比ASML開發和制造的工具更便宜，如果該種設備大規模量產，可能重塑芯片制造設備產業的現況。

值得關注的是，新系統在光學投影設定中只使用兩面鏡子，與傳統的六鏡配置有很大不同，這種光學系統的挑戰在于，它得將這些反射鏡沿直線對齊，以確保系統保持較高的光學性能。

報導稱，這種新的光路允許超過10%的初始EUV能量到達晶圓，而標準設置中的能量約為1%，這個改進是重大突破。而這種EUV微影工具的優點，在于提高可靠性并降低了維護復雜性，以及功耗大幅降低。