Imec 已接收阿斯麥（ASML）EXE:5200 高數(shù)值孔徑極紫外光刻系統(tǒng)，這是目前全球最先進(jìn)的光刻設(shè)備。該設(shè)備將讓Imec的合作伙伴提前接觸到下一代芯片微縮技術(shù)。

這套高數(shù)值孔徑極紫外光刻系統(tǒng)與一整套完整的圖形化、量檢測設(shè)備及材料直接集成，將助力 Imec 及其生態(tài)伙伴解鎖所需性能，率先開發(fā)2 納米以下邏輯芯片與高密度存儲技術(shù)，為先進(jìn)人工智能與高性能計(jì)算的發(fā)展提供動力。

“過去兩年是高數(shù)值孔徑（0.55NA）極紫外光刻技術(shù)發(fā)展的重要篇章，Imec 與 ASML 攜手產(chǎn)業(yè)生態(tài)，在荷蘭費(fèi)爾德霍芬的聯(lián)合高 NA EUV 光刻實(shí)驗(yàn)室共同開創(chuàng)了高 NA 極紫外技術(shù)。”Imec 首席執(zhí)行官盧克?范登霍夫表示，“隨著 EXE:5200 高 NA EUV 光刻系統(tǒng)在比利時(shí)魯汶的 300 毫米潔凈室完成安裝，我們致力于將這些高 NA 極紫外圖形化技術(shù)推向產(chǎn)業(yè)適用規(guī)模，并開發(fā)下一代高 NA 極紫外光刻應(yīng)用場景。其無與倫比的分辨率、更優(yōu)的套刻精度、高產(chǎn)能，以及全新的晶圓存儲單元（可提升工藝穩(wěn)定性與產(chǎn)能），將為我們的合作伙伴在加速 2 納米以下芯片技術(shù)研發(fā)方面帶來決定性優(yōu)勢。隨著產(chǎn)業(yè)進(jìn)入埃米時(shí)代，高 NA 極紫外光刻將成為一項(xiàng)基石級能力，Imec 很榮幸能夠率先引領(lǐng)，為合作伙伴提供最早、最全面的技術(shù)接入渠道。”

這一里程碑是 Imec 與 ASML 五年戰(zhàn)略合作的關(guān)鍵部分，該合作得到了歐盟（芯片聯(lián)合執(zhí)行機(jī)構(gòu)與歐洲共同利益重大項(xiàng)目 IPCEI）、比利時(shí)弗拉芒政府及荷蘭政府的支持。

范登霍夫補(bǔ)充道：“作為歐盟資助的 NanoIC 中試線的核心組成部分，該設(shè)備將在未來數(shù)十年鞏固歐洲在先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。”

Imec 獲得全球最先進(jìn)光刻設(shè)備

ASML EXE:5200 高 NA EUV 光刻系統(tǒng)入駐 Imec 潔凈室，穩(wěn)固了 Imec 作為全球最完備先進(jìn)圖形化研發(fā)平臺的地位。Imec 與頭部芯片制造商、設(shè)備、材料及光刻膠供應(yīng)商、掩膜企業(yè)和量檢測專家深度生態(tài)協(xié)作，將加速技術(shù)迭代周期、提升工藝穩(wěn)定性，開發(fā)并驗(yàn)證面向下一代邏輯與存儲器件的前沿圖形化技術(shù)，推動突破性創(chuàng)新，塑造未來先進(jìn)計(jì)算與人工智能的發(fā)展格局。

ASML 首席執(zhí)行官克里斯托夫?福凱表示：“Imec 完成 EXE:5200 裝機(jī)，標(biāo)志著產(chǎn)業(yè)向埃米時(shí)代邁出重要一步。我們將共同拓展高 NA 極紫外光刻技術(shù)，服務(wù)于下一代先進(jìn)存儲與計(jì)算芯片。”

Imec 預(yù)計(jì) EXE:5200 高 NA EUV 光刻系統(tǒng)將于2026 年第四季度全面通過驗(yàn)證。與此同時(shí)，ASML 與 Imec 在荷蘭費(fèi)爾德霍芬運(yùn)營的聯(lián)合高 NA EUV 光刻實(shí)驗(yàn)室將繼續(xù)運(yùn)行，保障 Imec 及其生態(tài)伙伴的高 NA 極紫外研發(fā)工作持續(xù)推進(jìn)。