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據日本媒體報導，光刻機設備龍頭阿斯麥（ASML）執行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時imec年度盛會ITF World 2023表示，半導體產業需要2030年開發數值孔徑0.75的超高NA EUV光...

ASML NA 2023-06-26

據外媒Tomshardware報導，一家俄羅斯研究單位正在研究開發自己的半導體微影光刻設備，預計該設備可以被用于7納米制程芯片的生產上。整個計劃預計在2028年完成，而且一旦完成之后，其設備可能會比ASML的Twinsc...

7nm 光刻設備 2022-10-24

　　半導體裝備制造產業是國民經濟的戰略性和先導性產業，10余年間，在國家增強自主創新能力和振興東北老工業基地等戰略方針的引導下，遼寧半導體裝備制造產業以沈陽為中心實現了從無到有、從小到大、由弱到強的歷史性轉變：建成了國內...

半導體光刻設備 2011-12-30

　　天津芯碩精密機械有限公司落戶簽字儀式暨老廠房改造開工儀式在天津開發區舉行。天津開發區(南港工業區)管委會黨組書記、管委會主任何樹山，工信部電子信息司副司長刁石京，芯碩半導體有限責任公司董事長劉鈞，濱海新區副區長郭景平...

芯碩光刻設備 2011-08-03

　　據臺積電公司負責技術研發的副總裁蔣尚義表示，2011年臺積電從荷蘭ASML公司訂購的極紫外(EUV，波長13.5nm)光刻設備將運抵廠內，這批訂購的設備將為臺積電公司2013年將公司制程能力升級到20nm級別鋪平道...

臺積電 20nm 2010-06-28

　　據荷蘭ASML公司高管透露，由于最近半導體廠商對沉浸式光刻設備的需求量劇增，著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工，同時還招聘了數百名新員工，這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工，...

ASML 32nm 2010-06-17

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