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ASML警告明年來(lái)自中國(guó)的需求可能大幅下滑

  • 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML第三季訂單表現(xiàn)優(yōu)于分析師預(yù)期，并表示明年銷(xiāo)售額將至少與2025年持平，主要受惠于全球企業(yè)大規(guī)模投資AI領(lǐng)域、對(duì)芯片制造設(shè)備的需求。同時(shí)，ASML也警告說(shuō)，明年來(lái)自中國(guó)的需求可能大幅下滑。ASML發(fā)布了2025年第三季度財(cái)報(bào)，財(cái)報(bào)顯示第三季度實(shí)現(xiàn)凈銷(xiāo)售額75億歐元，凈利潤(rùn)21億歐元，毛利率為51.6%，整體表現(xiàn)符合此前預(yù)期。更值得關(guān)注的是，本季度新增訂單金額達(dá)到54億歐元，其中EUV（極紫外光刻）訂單高達(dá)36億歐元，占比超過(guò)三分之二，充分反映出全球半導(dǎo)體制造商對(duì)先進(jìn)制程光刻設(shè)備的
  • 關(guān)鍵字： ASML  財(cái)報(bào)  EUV  

ASML發(fā)布2025年第三季度財(cái)報(bào)

  • 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2025年第三季度財(cái)報(bào)。2025年第三季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷(xiāo)售額75億歐元，毛利率為51.6%，凈利潤(rùn)達(dá)21億歐元。第三季度的新增訂單金額為54億歐元2，其中36億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2025年第四季度凈銷(xiāo)售額在92億至98億歐元之間，毛利率介于51%至53%；預(yù)計(jì)2025年全年凈銷(xiāo)售額將同比增長(zhǎng)約15%，毛利率約為52%。此外，ASML預(yù)計(jì)2026年凈銷(xiāo)售額將不低于2025年水平。（除非特別說(shuō)明，數(shù)字均以百萬(wàn)歐元為單位）2025年第二季度2025年第三季度凈銷(xiāo)售
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ASML任命新任首席技術(shù)官

  • ●? ?畢慕科（Marco Pieters）被任命為?ASML?首席技術(shù)官●? ?ASML監(jiān)事會(huì)計(jì)劃在2026年4月年度股東大會(huì)時(shí)再次任命戴厚杰（Roger Dassen）為首席財(cái)務(wù)官以及樊徳睿（Frédéric Schneider-Maunoury）為首席運(yùn)營(yíng)官，并任命首席技術(shù)官畢慕科（Marco Pieters）為管理委員會(huì)成員。ASML新任首席技術(shù)官畢慕科（Marco Pieters）ASML近日宣布任命畢慕科（Marco Pieters）
  • 關(guān)鍵字： ASML  

美眾議院“中美戰(zhàn)略競(jìng)爭(zhēng)特別委員會(huì)”發(fā)布涉華半導(dǎo)體關(guān)鍵設(shè)備出口調(diào)查報(bào)告

  • 根據(jù)SEMI和SEAJ的數(shù)據(jù)，2025年第二季度全球半導(dǎo)體制造設(shè)備支出總計(jì)330.7億美元，2025年第二季度的支出較2024年第二季度增長(zhǎng)23%。其中，中國(guó)大陸的支出最高，為113.6億美元，占總支出的34%。值得注意的是，中國(guó)大陸2025年第二季度的支出較2024年第二季度下降了7%。10月7日，美國(guó)眾議院“中美戰(zhàn)略競(jìng)爭(zhēng)特別委員會(huì)”兩黨議員在經(jīng)過(guò)數(shù)月的調(diào)查之后發(fā)現(xiàn)，包括荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的東京電子（TEL）以及美國(guó)的應(yīng)用材料公司（Applied Materials）、科磊（KLA）和泛林集
  • 關(guān)鍵字： 半導(dǎo)體  芯片  閃存  ASML  東京電子  應(yīng)用材料  

ASML的設(shè)備是制造AI芯片的關(guān)鍵，但為什么它錯(cuò)過(guò)了AI紅利

  • ASML 是一家荷蘭巨頭，幾乎壟斷了先進(jìn)人工智能芯片所必需的極紫外 （EUV） 光刻機(jī)，它處于有利地位，可以利用數(shù)據(jù)中心的激增。然而，由于 2026 年增長(zhǎng)不確定的警告，其股價(jià)在過(guò)去一年中僅上漲了 11%，表現(xiàn)落后于同行。核心問(wèn)題：依賴(lài)少數(shù)主要客戶(hù)，其中以控制先進(jìn)芯片生產(chǎn)的臺(tái)積電（臺(tái)積電）為主。ASML 依靠芯片制造商之間的競(jìng)爭(zhēng)而蓬勃發(fā)展，這些競(jìng)爭(zhēng)刺激了設(shè)備升級(jí)，但臺(tái)積電的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)扼殺了這種動(dòng)力。ASML 的最新創(chuàng)新高數(shù)值孔徑 （High NA） EUV 機(jī)器每臺(tái)成本超過(guò) 4 億美元，承諾為更小、更高效的
  • 關(guān)鍵字： ASML  設(shè)備  AI芯片  AI紅利  

ASML 和 SK hynix 在韓國(guó)的工廠組裝了業(yè)界首個(gè)“商用”High NA EUV 系統(tǒng)

  • ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實(shí)現(xiàn) 8 納米分辨率——而當(dāng)前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過(guò)昂貴的多重圖形匹配來(lái)達(dá)到這一效果，但 High-NA EUV 簡(jiǎn)化了光刻步驟，盡管這帶來(lái)了新的技術(shù)挑戰(zhàn)。鑒于 High-NA EUV 機(jī)器的能力，芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配，因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進(jìn)下一
  • 關(guān)鍵字： EUV  光刻機(jī)  ASML  海力士  

美國(guó)對(duì)ASML設(shè)備免征15%的關(guān)稅

  • 近日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML宣布，其新一代高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)EXE:5200已正式出貨，標(biāo)志著該技術(shù)已準(zhǔn)備好投入批量生產(chǎn)。根據(jù)最新報(bào)道，美國(guó)與歐盟委員會(huì)主席簽署的貿(mào)易協(xié)定中，對(duì)進(jìn)入美國(guó)的歐洲制造商品征收15%的關(guān)稅，但半導(dǎo)體制造設(shè)備等特定商品在零關(guān)稅安排下可享受豁免。這意味著ASML的設(shè)備在美國(guó)市場(chǎng)不會(huì)因關(guān)稅上漲而增加成本。報(bào)告指出，若對(duì)ASML設(shè)備征收15%的關(guān)稅，每臺(tái)DUV系統(tǒng)的成本將增加約1300萬(wàn)美元，每臺(tái)EUV設(shè)備的成本將增加高達(dá)4000萬(wàn)美元，這將大幅增加英特爾、三星和臺(tái)積電等企業(yè)的
  • 關(guān)鍵字： ASML  半導(dǎo)體設(shè)備  關(guān)稅  

歐盟晶圓廠設(shè)備制造商在歐盟-美國(guó)關(guān)稅協(xié)議中獲得暫緩——阿斯麥等公司將被免征15%關(guān)稅

  • （圖片來(lái)源：ASML）美國(guó)總統(tǒng)和歐洲委員會(huì)主席本周早些時(shí)候簽署的貿(mào)易協(xié)議對(duì)幾乎所有在歐洲制造并運(yùn)往美國(guó)的商品征收 15%的關(guān)稅，但有幾類(lèi)產(chǎn)品將免稅，包括半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備，這些設(shè)備將享受零關(guān)稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產(chǎn)的工具在美國(guó)不會(huì)變得更貴。歐洲委員會(huì)的一份聲明稱(chēng)：“我們還就一些戰(zhàn)略產(chǎn)品達(dá)成了零關(guān)稅的協(xié)議。” 聲明中寫(xiě)道。“這包括所有飛機(jī)及其零部件、某些化學(xué)品、某些通用藥品、半導(dǎo)體設(shè)備、某些農(nóng)產(chǎn)品、自然資源和關(guān)鍵原材料。我們將繼續(xù)努力將更多產(chǎn)品添加到這個(gè)清單中。”如果美國(guó)對(duì) ASML 生
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ASML 警告 2026 年增長(zhǎng)停滯，地緣政治風(fēng)險(xiǎn)威脅十年發(fā)展

  • 根據(jù)路透社報(bào)道，ASML 今日發(fā)布了其 2025 年第二季度的財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)。雖然第二季度訂單量超出了市場(chǎng)預(yù)期，但該公司警告稱(chēng)，2026 年的增長(zhǎng)可能將達(dá)不到預(yù)期。如其 新聞稿所述，ASML 指出，雖然人工智能客戶(hù)的基本面在進(jìn)入 2026 年時(shí)保持強(qiáng)勁，但宏觀經(jīng)濟(jì)和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認(rèn) 2026 年的增長(zhǎng)。如果這種情況發(fā)生，2026年將成為自2012年以來(lái)首次沒(méi)有收入增長(zhǎng)的一年——路透社指出，打破了不間斷增長(zhǎng)的記錄。同時(shí)，ASML 表示，現(xiàn)在預(yù)計(jì) 2025 年全年凈銷(xiāo)售
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻機(jī)  財(cái)報(bào)  

ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機(jī)

  • 據(jù)外媒報(bào)道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動(dòng)研發(fā)分辨率可達(dá)5納米的Hyper NA光刻機(jī)設(shè)備。ASML技術(shù)執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機(jī)將滿(mǎn)足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開(kāi)始出貨最先進(jìn)的光刻機(jī)，其單次曝光分辨率可達(dá)8納米，相比舊款設(shè)備需要多次曝光才能實(shí)現(xiàn)類(lèi)似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進(jìn)行設(shè)計(jì)研究，目標(biāo)是開(kāi)發(fā)數(shù)值孔徑（NA）達(dá)到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學(xué)系統(tǒng)聚焦能力的重要指標(biāo)，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長(zhǎng)
  • 關(guān)鍵字： ASML  5納米  Hyper NA  光刻機(jī)  

ASML杯光刻「芯 」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)

  • 這是一場(chǎng)追光人的技術(shù)狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發(fā)出光刻英雄帖，集結(jié)菁英光刻「芯」勢(shì)力與ASML共尋技術(shù)之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起，是一項(xiàng)面向中國(guó)半導(dǎo)體人才與科技愛(ài)好者的科普賽事。依托ASML在光刻領(lǐng)域的技術(shù)積累與行業(yè)洞察，賽事致力于為參賽者打造一個(gè)深度探索光刻技術(shù)的知識(shí)競(jìng)技窗口，同時(shí)培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢(shì)力，共同推動(dòng)摩爾定律演進(jìn)。本次挑戰(zhàn)賽聚焦光刻技術(shù)教育普及，通過(guò)涵蓋光學(xué)、物理學(xué)知識(shí)的專(zhuān)業(yè)試題帶領(lǐng)參賽者深入了解光刻機(jī)、計(jì)算光刻、量測(cè)等
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻  

臺(tái)積電保持觀望 ASML最新EUV機(jī)臺(tái)只賣(mài)了5臺(tái)

  • 荷蘭阿斯麥（ASML）全新機(jī)臺(tái)卻讓臺(tái)積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設(shè)備性能強(qiáng)大，但因這款機(jī)臺(tái)單價(jià)高達(dá)4億美元，臺(tái)積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時(shí)沒(méi)有計(jì)畫(huà)在A14及其后續(xù)制程中導(dǎo)入。路透27日?qǐng)?bào)導(dǎo)，這款先進(jìn)機(jī)臺(tái)價(jià)格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現(xiàn)有最昂貴設(shè)備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細(xì)評(píng)估，這款設(shè)備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價(jià)格。臺(tái)積電技術(shù)開(kāi)發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強(qiáng)表示，即便不使用High-N
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臺(tái)積電仍在評(píng)估ASML的“High-NA”，因?yàn)橛⑻貭栁磥?lái)會(huì)使用

  • 全球最大的合同芯片制造商臺(tái)積電制造股份有限公司 （2330.TW） 仍在評(píng)估何時(shí)將 ASML 的尖端高數(shù)值孔徑 （NA） 機(jī)器用于其未來(lái)的工藝節(jié)點(diǎn)，一位高管周二表示。芯片制造商正在權(quán)衡這些價(jià)值近 4 億美元的機(jī)器的速度和精度優(yōu)勢(shì)何時(shí)會(huì)超過(guò)芯片制造廠中最昂貴的設(shè)備幾乎翻倍的價(jià)格標(biāo)簽。當(dāng)被問(wèn)及臺(tái)積電是否計(jì)劃將這臺(tái)機(jī)器用于其即將推出的 A14 和未來(lái)節(jié)點(diǎn)的增強(qiáng)版本時(shí)，Kevin Zhang 表示，該公司尚未找到令人信服的理由。“A14，我所說(shuō)的增強(qiáng)，在不使用 High-NA 的情況下非常可觀。因此，我們的技術(shù)團(tuán)
  • 關(guān)鍵字： 臺(tái)積電  ASML  “High-NA”  

光罩圖形化：電子束光刻發(fā)展之路

  • ASML 的光學(xué)投影光刻機(jī)的熱度經(jīng)久不衰，伴隨著 High NA EUV 光刻機(jī)和國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)概念引發(fā)的關(guān)注，各種行業(yè)研報(bào)層出不窮。相比之下，電子束光刻的賽道就顯得冷清了。除了常規(guī)的科研方向的應(yīng)用外，小規(guī)模試產(chǎn)，量子芯片也是電子束光刻機(jī)的主要應(yīng)用。而光罩廠中的光罩圖形化，則是當(dāng)下電子束光刻最重要的用途，其重要性絲毫不亞于 ASML 的各型光刻設(shè)備。電子束與光：殊途同歸電子本身所具有的波粒二象性決定了，更高的能量下，其具有的更高的頻率能夠等效于更小的波長(zhǎng)。當(dāng)電子束的能量為 100keV 時(shí)
  • 關(guān)鍵字： ?ASML  
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