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三星購買了兩款A(yù)SML高數(shù)值孔值EUV工具

  • 據(jù)《韓國經(jīng)濟(jì)日報》報道，據(jù)報道，三星將于今年晚些時候收到其首款高數(shù)值孔徑 （high-NA） EUV 掃描儀——Twinscan EXE：5200B，隨后將于 2026 年上半年推出第二臺掃描儀。報告補(bǔ)充說，雖然該公司已經(jīng)在其華城市園區(qū)運(yùn)營了一種研究用途的高 NA EUV 工具，但新系統(tǒng)將標(biāo)志著其首次旨在大規(guī)模生產(chǎn)的收購。報告指出，競爭對手臺積電目前正在測試該系統(tǒng)的研發(fā)版本，但尚未將其部署用于商業(yè)規(guī)模制造。報道援引消息人士的話稱，SK海力士在9月份證實(shí)已經(jīng)訂購了生產(chǎn)級高NA EUV系統(tǒng)。據(jù)報道援引消息人士
  • 關(guān)鍵字： 三星  ASML  高數(shù)值孔值  EUV  

ASML警告明年來自中國的需求可能大幅下滑

  • 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML第三季訂單表現(xiàn)優(yōu)于分析師預(yù)期，并表示明年銷售額將至少與2025年持平，主要受惠于全球企業(yè)大規(guī)模投資AI領(lǐng)域、對芯片制造設(shè)備的需求。同時，ASML也警告說，明年來自中國的需求可能大幅下滑。ASML發(fā)布了2025年第三季度財報，財報顯示第三季度實(shí)現(xiàn)凈銷售額75億歐元，凈利潤21億歐元，毛利率為51.6%，整體表現(xiàn)符合此前預(yù)期。更值得關(guān)注的是，本季度新增訂單金額達(dá)到54億歐元，其中EUV（極紫外光刻）訂單高達(dá)36億歐元，占比超過三分之二，充分反映出全球半導(dǎo)體制造商對先進(jìn)制程光刻設(shè)備的
  • 關(guān)鍵字： ASML  財報  EUV  

ASML發(fā)布2025年第三季度財報

  • 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2025年第三季度財報。2025年第三季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額75億歐元，毛利率為51.6%，凈利潤達(dá)21億歐元。第三季度的新增訂單金額為54億歐元2，其中36億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計2025年第四季度凈銷售額在92億至98億歐元之間，毛利率介于51%至53%；預(yù)計2025年全年凈銷售額將同比增長約15%，毛利率約為52%。此外，ASML預(yù)計2026年凈銷售額將不低于2025年水平。（除非特別說明，數(shù)字均以百萬歐元為單位）2025年第二季度2025年第三季度凈銷售
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ASML任命新任首席技術(shù)官

  • ●? ?畢慕科（Marco Pieters）被任命為?ASML?首席技術(shù)官●? ?ASML監(jiān)事會計劃在2026年4月年度股東大會時再次任命戴厚杰（Roger Dassen）為首席財務(wù)官以及樊徳睿（Frédéric Schneider-Maunoury）為首席運(yùn)營官，并任命首席技術(shù)官畢慕科（Marco Pieters）為管理委員會成員。ASML新任首席技術(shù)官畢慕科（Marco Pieters）ASML近日宣布任命畢慕科（Marco Pieters）
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美眾議院“中美戰(zhàn)略競爭特別委員會”發(fā)布涉華半導(dǎo)體關(guān)鍵設(shè)備出口調(diào)查報告

  • 根據(jù)SEMI和SEAJ的數(shù)據(jù)，2025年第二季度全球半導(dǎo)體制造設(shè)備支出總計330.7億美元，2025年第二季度的支出較2024年第二季度增長23%。其中，中國大陸的支出最高，為113.6億美元，占總支出的34%。值得注意的是，中國大陸2025年第二季度的支出較2024年第二季度下降了7%。10月7日，美國眾議院“中美戰(zhàn)略競爭特別委員會”兩黨議員在經(jīng)過數(shù)月的調(diào)查之后發(fā)現(xiàn)，包括荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的東京電子（TEL）以及美國的應(yīng)用材料公司（Applied Materials）、科磊（KLA）和泛林集
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ASML的設(shè)備是制造AI芯片的關(guān)鍵，但為什么它錯過了AI紅利

  • ASML 是一家荷蘭巨頭，幾乎壟斷了先進(jìn)人工智能芯片所必需的極紫外 （EUV） 光刻機(jī)，它處于有利地位，可以利用數(shù)據(jù)中心的激增。然而，由于 2026 年增長不確定的警告，其股價在過去一年中僅上漲了 11%，表現(xiàn)落后于同行。核心問題：依賴少數(shù)主要客戶，其中以控制先進(jìn)芯片生產(chǎn)的臺積電（臺積電）為主。ASML 依靠芯片制造商之間的競爭而蓬勃發(fā)展，這些競爭刺激了設(shè)備升級，但臺積電的領(lǐng)先優(yōu)勢扼殺了這種動力。ASML 的最新創(chuàng)新高數(shù)值孔徑 （High NA） EUV 機(jī)器每臺成本超過 4 億美元，承諾為更小、更高效的
  • 關(guān)鍵字： ASML  設(shè)備  AI芯片  AI紅利  

ASML 和 SK hynix 在韓國的工廠組裝了業(yè)界首個“商用”High NA EUV 系統(tǒng)

  • ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實(shí)現(xiàn) 8 納米分辨率——而當(dāng)前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過昂貴的多重圖形匹配來達(dá)到這一效果，但 High-NA EUV 簡化了光刻步驟，盡管這帶來了新的技術(shù)挑戰(zhàn)。鑒于 High-NA EUV 機(jī)器的能力，芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配，因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進(jìn)下一
  • 關(guān)鍵字： EUV  光刻機(jī)  ASML  海力士  

美國對ASML設(shè)備免征15%的關(guān)稅

  • 近日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML宣布，其新一代高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)EXE:5200已正式出貨，標(biāo)志著該技術(shù)已準(zhǔn)備好投入批量生產(chǎn)。根據(jù)最新報道，美國與歐盟委員會主席簽署的貿(mào)易協(xié)定中，對進(jìn)入美國的歐洲制造商品征收15%的關(guān)稅，但半導(dǎo)體制造設(shè)備等特定商品在零關(guān)稅安排下可享受豁免。這意味著ASML的設(shè)備在美國市場不會因關(guān)稅上漲而增加成本。報告指出，若對ASML設(shè)備征收15%的關(guān)稅，每臺DUV系統(tǒng)的成本將增加約1300萬美元，每臺EUV設(shè)備的成本將增加高達(dá)4000萬美元，這將大幅增加英特爾、三星和臺積電等企業(yè)的
  • 關(guān)鍵字： ASML  半導(dǎo)體設(shè)備  關(guān)稅  

歐盟晶圓廠設(shè)備制造商在歐盟-美國關(guān)稅協(xié)議中獲得暫緩——阿斯麥等公司將被免征15%關(guān)稅

  • （圖片來源：ASML）美國總統(tǒng)和歐洲委員會主席本周早些時候簽署的貿(mào)易協(xié)議對幾乎所有在歐洲制造并運(yùn)往美國的商品征收 15%的關(guān)稅，但有幾類產(chǎn)品將免稅，包括半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備，這些設(shè)備將享受零關(guān)稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產(chǎn)的工具在美國不會變得更貴。歐洲委員會的一份聲明稱：“我們還就一些戰(zhàn)略產(chǎn)品達(dá)成了零關(guān)稅的協(xié)議。” 聲明中寫道。“這包括所有飛機(jī)及其零部件、某些化學(xué)品、某些通用藥品、半導(dǎo)體設(shè)備、某些農(nóng)產(chǎn)品、自然資源和關(guān)鍵原材料。我們將繼續(xù)努力將更多產(chǎn)品添加到這個清單中。”如果美國對 ASML 生
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ASML 警告 2026 年增長停滯，地緣政治風(fēng)險威脅十年發(fā)展

  • 根據(jù)路透社報道，ASML 今日發(fā)布了其 2025 年第二季度的財務(wù)業(yè)績。雖然第二季度訂單量超出了市場預(yù)期，但該公司警告稱，2026 年的增長可能將達(dá)不到預(yù)期。如其 新聞稿所述，ASML 指出，雖然人工智能客戶的基本面在進(jìn)入 2026 年時保持強(qiáng)勁，但宏觀經(jīng)濟(jì)和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認(rèn) 2026 年的增長。如果這種情況發(fā)生，2026年將成為自2012年以來首次沒有收入增長的一年——路透社指出，打破了不間斷增長的記錄。同時，ASML 表示，現(xiàn)在預(yù)計 2025 年全年凈銷售
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ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機(jī)

  • 據(jù)外媒報道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動研發(fā)分辨率可達(dá)5納米的Hyper NA光刻機(jī)設(shè)備。ASML技術(shù)執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機(jī)將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進(jìn)的光刻機(jī)，其單次曝光分辨率可達(dá)8納米，相比舊款設(shè)備需要多次曝光才能實(shí)現(xiàn)類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進(jìn)行設(shè)計研究，目標(biāo)是開發(fā)數(shù)值孔徑（NA）達(dá)到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學(xué)系統(tǒng)聚焦能力的重要指標(biāo)，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長
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ASML杯光刻「芯 」勢力知識挑戰(zhàn)賽正式啟動

  • 這是一場追光人的技術(shù)狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發(fā)出光刻英雄帖，集結(jié)菁英光刻「芯」勢力與ASML共尋技術(shù)之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起，是一項(xiàng)面向中國半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領(lǐng)域的技術(shù)積累與行業(yè)洞察，賽事致力于為參賽者打造一個深度探索光刻技術(shù)的知識競技窗口，同時培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢力，共同推動摩爾定律演進(jìn)。本次挑戰(zhàn)賽聚焦光刻技術(shù)教育普及，通過涵蓋光學(xué)、物理學(xué)知識的專業(yè)試題帶領(lǐng)參賽者深入了解光刻機(jī)、計算光刻、量測等
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臺積電保持觀望 ASML最新EUV機(jī)臺只賣了5臺

  • 荷蘭阿斯麥（ASML）全新機(jī)臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設(shè)備性能強(qiáng)大，但因這款機(jī)臺單價高達(dá)4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續(xù)制程中導(dǎo)入。路透27日報導(dǎo)，這款先進(jìn)機(jī)臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現(xiàn)有最昂貴設(shè)備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細(xì)評估，這款設(shè)備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。臺積電技術(shù)開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強(qiáng)表示，即便不使用High-N
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