- 據《韓國經濟日報》報道，據報道，三星將于今年晚些時候收到其首款高數值孔徑 （high-NA） EUV 掃描儀——Twinscan EXE：5200B，隨后將于 2026 年上半年推出第二臺掃描儀。報告補充說，雖然該公司已經在其華城市園區運營了一種研究用途的高 NA EUV 工具，但新系統將標志著其首次旨在大規模生產的收購。報告指出，競爭對手臺積電目前正在測試該系統的研發版本，但尚未將其部署用于商業規模制造。報道援引消息人士的話稱，SK海力士在9月份證實已經訂購了生產級高NA EUV系統。據報道援引消息人士
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三星 ASML 高數值孔值 EUV
- 荷蘭半導體設備制造商ASML第三季訂單表現優于分析師預期，并表示明年銷售額將至少與2025年持平，主要受惠于全球企業大規模投資AI領域、對芯片制造設備的需求。同時，ASML也警告說，明年來自中國的需求可能大幅下滑。ASML發布了2025年第三季度財報，財報顯示第三季度實現凈銷售額75億歐元，凈利潤21億歐元，毛利率為51.6%，整體表現符合此前預期。更值得關注的是，本季度新增訂單金額達到54億歐元，其中EUV（極紫外光刻）訂單高達36億歐元，占比超過三分之二，充分反映出全球半導體制造商對先進制程光刻設備的
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ASML 財報 EUV
- 阿斯麥（ASML）近日發布2025年第三季度財報。2025年第三季度，ASML實現凈銷售額75億歐元，毛利率為51.6%，凈利潤達21億歐元。第三季度的新增訂單金額為54億歐元2，其中36億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2025年第四季度凈銷售額在92億至98億歐元之間，毛利率介于51%至53%；預計2025年全年凈銷售額將同比增長約15%，毛利率約為52%。此外，ASML預計2026年凈銷售額將不低于2025年水平。（除非特別說明，數字均以百萬歐元為單位）2025年第二季度2025年第三季度凈銷售
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ASML
- ●? ?畢慕科（Marco Pieters）被任命為?ASML?首席技術官●? ?ASML監事會計劃在2026年4月年度股東大會時再次任命戴厚杰（Roger Dassen）為首席財務官以及樊徳睿（Frédéric Schneider-Maunoury）為首席運營官，并任命首席技術官畢慕科（Marco Pieters）為管理委員會成員。ASML新任首席技術官畢慕科（Marco Pieters）ASML近日宣布任命畢慕科（Marco Pieters）
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ASML
- 根據SEMI和SEAJ的數據，2025年第二季度全球半導體制造設備支出總計330.7億美元，2025年第二季度的支出較2024年第二季度增長23%。其中，中國大陸的支出最高，為113.6億美元，占總支出的34%。值得注意的是，中國大陸2025年第二季度的支出較2024年第二季度下降了7%。10月7日，美國眾議院“中美戰略競爭特別委員會”兩黨議員在經過數月的調查之后發現，包括荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的東京電子（TEL）以及美國的應用材料公司（Applied Materials）、科磊（KLA）和泛林集
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半導體 芯片 閃存 ASML 東京電子 應用材料
- ASML 是一家荷蘭巨頭，幾乎壟斷了先進人工智能芯片所必需的極紫外 （EUV） 光刻機，它處于有利地位，可以利用數據中心的激增。然而，由于 2026 年增長不確定的警告，其股價在過去一年中僅上漲了 11%，表現落后于同行。核心問題：依賴少數主要客戶，其中以控制先進芯片生產的臺積電（臺積電）為主。ASML 依靠芯片制造商之間的競爭而蓬勃發展，這些競爭刺激了設備升級，但臺積電的領先優勢扼殺了這種動力。ASML 的最新創新高數值孔徑 （High NA） EUV 機器每臺成本超過 4 億美元，承諾為更小、更高效的
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ASML 設備 AI芯片 AI紅利
- ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實現 8 納米分辨率——而當前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過昂貴的多重圖形匹配來達到這一效果，但 High-NA EUV 簡化了光刻步驟，盡管這帶來了新的技術挑戰。鑒于 High-NA EUV 機器的能力，芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配，因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進下一
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EUV 光刻機 ASML 海力士
- 近日，荷蘭半導體設備制造商ASML宣布，其新一代高數值孔徑EUV光刻機EXE:5200已正式出貨，標志著該技術已準備好投入批量生產。根據最新報道，美國與歐盟委員會主席簽署的貿易協定中，對進入美國的歐洲制造商品征收15%的關稅，但半導體制造設備等特定商品在零關稅安排下可享受豁免。這意味著ASML的設備在美國市場不會因關稅上漲而增加成本。報告指出，若對ASML設備征收15%的關稅，每臺DUV系統的成本將增加約1300萬美元，每臺EUV設備的成本將增加高達4000萬美元，這將大幅增加英特爾、三星和臺積電等企業的
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ASML 半導體設備 關稅
- （圖片來源：ASML）美國總統和歐洲委員會主席本周早些時候簽署的貿易協議對幾乎所有在歐洲制造并運往美國的商品征收 15%的關稅，但有幾類產品將免稅，包括半導體生產設備，這些設備將享受零關稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產的工具在美國不會變得更貴。歐洲委員會的一份聲明稱：“我們還就一些戰略產品達成了零關稅的協議。” 聲明中寫道。“這包括所有飛機及其零部件、某些化學品、某些通用藥品、半導體設備、某些農產品、自然資源和關鍵原材料。我們將繼續努力將更多產品添加到這個清單中。”如果美國對 ASML 生
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ASML 光刻機 關稅
- 根據路透社報道，ASML 今日發布了其 2025 年第二季度的財務業績。雖然第二季度訂單量超出了市場預期，但該公司警告稱，2026 年的增長可能將達不到預期。如其 新聞稿所述，ASML 指出，雖然人工智能客戶的基本面在進入 2026 年時保持強勁，但宏觀經濟和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認 2026 年的增長。如果這種情況發生，2026年將成為自2012年以來首次沒有收入增長的一年——路透社指出，打破了不間斷增長的記錄。同時，ASML 表示，現在預計 2025 年全年凈銷售
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- 據外媒報道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動研發分辨率可達5納米的Hyper NA光刻機設備。ASML技術執行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進的光刻機，其單次曝光分辨率可達8納米，相比舊款設備需要多次曝光才能實現類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是開發數值孔徑（NA）達到0.7或更高的系統。數值孔徑是衡量光學系統聚焦能力的重要指標，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長
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ASML 5納米 Hyper NA 光刻機
- 這是一場追光人的技術狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發出光刻英雄帖，集結菁英光刻「芯」勢力與ASML共尋技術之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢力知識挑戰賽由全球半導體行業領先供應商ASML發起，是一項面向中國半導體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領域的技術積累與行業洞察，賽事致力于為參賽者打造一個深度探索光刻技術的知識競技窗口，同時培養優秀科技「芯」勢力，共同推動摩爾定律演進。本次挑戰賽聚焦光刻技術教育普及，通過涵蓋光學、物理學知識的專業試題帶領參賽者深入了解光刻機、計算光刻、量測等
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- 荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續制程中導入。路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現有最昂貴設備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。臺積電技術開發資深副總經理張曉強表示，即便不使用High-N
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- 全球最大的合同芯片制造商臺積電制造股份有限公司 （2330.TW） 仍在評估何時將 ASML 的尖端高數值孔徑 （NA） 機器用于其未來的工藝節點，一位高管周二表示。芯片制造商正在權衡這些價值近 4 億美元的機器的速度和精度優勢何時會超過芯片制造廠中最昂貴的設備幾乎翻倍的價格標簽。當被問及臺積電是否計劃將這臺機器用于其即將推出的 A14 和未來節點的增強版本時，Kevin Zhang 表示，該公司尚未找到令人信服的理由。“A14，我所說的增強，在不使用 High-NA 的情況下非常可觀。因此，我們的技術團
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臺積電 ASML “High-NA”
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