- 據《日經亞洲》報道，日本研究機構Global Net數據顯示，2025年全球芯片設備廠商前20強中有3家中國企業，較2022年美國出口限制前新增2家。這三家公司分別是北方華創、中微公司和上海微電子。值得注意的是，若將范圍擴大至排名前30名的企業，還將新增兩家中國企業：盛美上海和華海清科。北方華創、中微、上海微、盛美上海、華海清科上榜TOP30這一變化既展現了國產設備凸顯群體崛起態勢，也印證了美國出口管制未達遏制目的，反而倒逼中國半導體供應鏈自主化加速，激發了本土產業韌性。北方華創具體排名中，北方華創的排名
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- ASML Holding NV 交出 2025 年創紀錄財務業績，印證了先進光刻設備需求的持續旺盛，以及市場對人工智能驅動的半導體領域投資信心的不斷提升。這家荷蘭半導體設備巨頭公布，2025 年全年凈營收達 327 億歐元，凈利潤為 96 億歐元。對于讀者而言，這份業績數據具有重要參考意義 —— 不僅因為 ASML 處于全球芯片制造生態的核心位置，更因其發展前景往往是歐洲及全球各地半導體行業資本支出、極紫外光刻（EUV）技術普及進度與技術路線圖的領先指標。極紫外光刻業務增長，推動全年業績創紀錄ASML20
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- 全球最大的先進芯片荷蘭制造商ASML在公布其銷售額連續第十三年實現增長后，CEO克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在聲明中表示，計劃裁減約1700個工作崗位，作為其技術和IT運營重組的一部分。此次裁員人員主要涉及管理層，人數約占員工總數的4%，大部分裁員將在荷蘭進行，美國也有部分職位被裁減。ASML表示，一些領導職位可能不再需要，同時將創建新的工程職位以支持正在進行和未來的項目。“雖然這將使一些受影響的同事能夠轉移到新的崗位，但我們必須承認，有些人將因此離開阿斯麥公司”。此舉旨在加強
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- 阿斯麥（ASML）近日發布2025年第四季度及全年財報。2025年第四季度，ASML實現凈銷售額97億歐元，毛利率為52.2%，凈利潤達28億歐元；第四季度的新增訂單金額為132億歐元，其中74億歐元為EUV光刻機訂單。ASML 2025年全年凈銷售額達327億歐元，毛利率為52.8%，凈利潤為96億歐元。截至2025年底，ASML的未交付訂單金額為388億歐元。ASML預計2026年第一季度凈銷售額在82億至89億歐元之間，毛利率介于51%至53%；2026年全年凈銷售額預計在340億至390億歐元之間
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- ASML成為第三家市值突破5000億美元的歐洲公司，主要客戶TSMC給出了超出預期的2026年展望。這家荷蘭半導體設備制造商周四在阿姆斯特丹股價上漲了最高7.6%，創下歷史新高，并將年初至今漲幅擴大到24%。這使得ASML的市值達到約4530億歐元（5270億美元）。此前只有奢侈品集團LVMH和丹麥制藥公司諾和諾德A/S達到過這一里程碑。ASML在臺積電周四預測2026年資本支出將達到高達560億美元，超出預期后，ASML突破象征性水平，顯示出這家芯片制造商正從人工智能熱潮中獲益。巴克萊集團策略師Emma
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- 隨著計算技術的進步，越來越多的先進芯片應運而生。最新一代 3 納米和 2 納米制程芯片的尺寸極小，傳統光源波長已無法在如此精細的尺度上實現可靠的圖形光刻。這一挑戰并非新題 —— 半導體行業長期以來一直使用深紫外光刻（DUV）技術在硅片上進行光刻加工。但要實現最先進芯片設計的納米級精度，就需要波長更短的光源。這種光源及對應的光刻技術被稱為極紫外光刻（EUV）。中國 EUV 原型機提前問世圖注：更短、更精準、更纖薄：技術的巨大飛躍，蔡司（ZEISS）數據顯示，EUV 技術制造的結構精度達 13.5 納米，比人
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- 在美國的限制下，中國推進半導體設備自給自足，紫外真空是相較于ASML光刻技術的關鍵瓶頸。ASML的極紫外光刻（EUV）技術被廣泛認為是現代工業的皇冠明珠。中國試圖通過投入資源實現類似“曼哈頓計劃”的努力，但真正的障礙不僅僅在于設備復制，更在于全球供應鏈以及ASML三十多年來構建的高量制造（HVM）數據反饋循環。為什么中國的逆向工程在面對EUV時失敗？答案可能在于曝光波長的演變。在半導體制造中，光刻機作為光刻工藝的核心設備。它通過圖案化的光掩膜和光刻膠將預設計的電路圖案光學轉移到晶圓表面，其精度和通量直接決
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- 中國朝向國產紫外真空光刻能力的漫長進程似乎正在縮小，近期發展顯示進展速度超乎預期。據路透社報道，消息人士稱中國已組裝了一臺使用舊ASML系統組件的EUV原型機。正如報道所示，消息人士稱中國政府目標是在2028年前生產使用該原型機的實用芯片，盡管2030年被視為更現實的目標。原型機的存在表明，中國距離半導體自給自足可能比此前預期的更近數年。報道援引消息人士稱，原型機于2025年初完成，目前正在進行測試。報告補充說，雖然該機器已運行并具備極紫外光的能力，但尚未生產出可工作的芯片。據報道，前ASML工程師參與了
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- 2007 年，克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）應聘 ASML 時，提出了一個不同尋常的要求：能否接受比這家荷蘭公司提供的職位低一級的職位？他想深入了解 ASML 向英特爾和三星電子等科技巨頭出售的新型芯片制造設備的技術細節。第二年入職后，他花了數周時間仔細研讀產品目錄，直到能夠背誦出所有關鍵特性。「即使是今天，當我與客戶會面時，我們也會討論非常具體的事情，」這位 52 歲的首席執行官說道，他于 2024 年接任 ASML 首席執行官一職。「你需要了解他們的業務。你需要能夠解釋你正在
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- 全球光刻機巨頭阿斯麥（ASML）首席執行官克里克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在專訪時，談到了被禁止向中國出口所有EUV設備及最先進的深紫外（DUV）光刻設備，就當前西方對華光刻機出口限制政策，拋出了一番充滿矛盾的“技術制衡論”，引發行業廣泛關注。眼下，阿斯麥正面臨嚴苛的出口管制約束：被禁止向中國出口所有極紫外（EUV）光刻設備，以及技術最先進的深紫外（DUV）光刻設備。他重申其觀點，認為“應向中國適度輸出技術以防其自主研發形成競爭力”；同時，在他看來在對華技術出口限制問題上，西方
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- 半導體行業的領先供應商ASML（阿斯麥）將于11月5日至10日參加第八屆中國國際進口博覽會（以下簡稱“進博會”）。在本屆進博會上，ASML將以“積納米之微，成大千世界”為主題，亮相技術裝備展區4.1展館集成電路專區A1-03展臺。ASML在2025年進博會的展臺在今年進博會上，ASML將通過短片形式分享其對AI（人工智能）時代下半導體行業所面臨機遇和挑戰的全球洞察：AI正在深刻影響社會與生活的方方面面，驅動全球對不同制程節點芯片需求的激增。這一趨勢加速了創新步伐，也帶來算力和能源方面的挑戰。推動摩爾定律持
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- 關于網紅半導體工藝公司Substrate，Semianalysis給出了基于所謂內部資料的分析報告，我們一起來看看他們的工藝是否能顛覆ASML和臺積電？
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- 年3月，詹姆斯·普勞德（James Proud）是一位不起眼的英國出生的美國人，沒有大學學位，他坐在副總裁JD Vance的辦公室里，解釋了他在硅谷的初創公司Substrate如何開發出一種替代的半導體制造工藝，這是技術領域最基本和最困難的挑戰之一。在過去的十年中，半導體一直是由校車大小的機器制造的，該機器利用光在無菌內的硅片上蝕刻圖案， 250億美元的工廠。這臺來自荷蘭公司 ASML 的機器對智能手機、人工智能系統和武器中的芯片至關重要，以至于華盛頓有效地阻止了它向中國的銷售。但普勞德表示，他的公司已從
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- 目前，生產尖端半導體必不可少的EUV（極紫外）光刻設備由荷蘭ASML獨家供應，而臺積電2nm工藝就是利用現有的EUV設備實現晶圓的大規模量產，并保持較高的良率。但隨著推進到更先進的次2nm節點 —— 即1.4nm與1nm（分別代號A14與A10）—— 制造工藝將面臨更多技術瓶頸。理論上，這些問題可以通過采購ASML的最先進High-NA EUV設備來解決，但最新消息稱臺積電選擇的方向并非購買新設備，而是轉向使用光掩模薄膜（Photomask Pellicles）。什么是High-NA光刻機？從早期的深紫外
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- 荷蘭半導體設備巨頭、芯片制造光刻機的主要供應商 ASML Holding NV 于 2025 年 10 月 15 日發布了 2025 年第三季度財報。結果顯示，在人工智能需求的推動下，訂單量強勁，但也對 2026 年對中國的銷售額將大幅下降發出了嚴厲警告。雖然該公司試圖向投資者保證整體增長將保持穩定，但這一消息凸顯了芯片行業不斷升級的地緣政治緊張局勢。以下是主要亮點的細分。財務業績ASML 公布了穩健的第三季度業績，盡管凈利潤持平，但預訂量超出預期：凈銷售額：77 億歐元，同比增長 8%，但略低于分析師預
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