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EUV

在半導(dǎo)體行業(yè),EUV一般指EUV光刻,即極紫外光刻。 極紫外光刻(英語(yǔ):Extreme ultra-violet,也稱(chēng)EUV或EUVL)是一種使用極紫外(EUV)波長(zhǎng)的光刻技術(shù)。 EUV光刻采用波長(zhǎng)為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長(zhǎng)一下子降到13。5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下的特征尺寸。

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