EEPW
技術(shù)應(yīng)用
白光干涉儀SIS系列采用增加相位掃描干涉技術(shù),是專為準(zhǔn)確測(cè)量表面輪廓、粗糙度、臺(tái)階高度和其他表面參數(shù)而設(shè)計(jì)的微納米測(cè)量系統(tǒng),,為韓國SAMSUNG全球唯一指定供應(yīng)商,LPL友好俱樂部成員,清華大學(xué),臺(tái)灣大學(xué),首爾大學(xué)友好合作伙伴。 1、非接觸式測(cè)量:避免物件受損。 2、三維表面測(cè)量:表面高度測(cè)量范圍為1nm-200μm。 3、多重視野鏡片:方便物鏡的快速切換。
HBM4競(jìng)爭(zhēng)格局生變
長江存儲(chǔ)進(jìn)入加速期,三期項(xiàng)目計(jì)劃今年建成投產(chǎn)
國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備加速崛起
上調(diào)100%!存儲(chǔ)市場(chǎng)又一重磅調(diào)價(jià)信號(hào)
插混車型成為“突破口”:中國車企在歐洲市場(chǎng)的銷量再創(chuàng)新高
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