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芯片清洗：潔凈標準的全新挑戰

先進制程節點下，污染已成為系統級的良率限制因素，且尚無簡單的解決辦法核心要點最先進的制程節點中，污染物的識別難度大幅提升，晶圓廠不得不重新思考污染控制的實現方式污染引發的問題可能表現為電學異?；蚪y計性偏差，而非顆粒雜質，...

芯片清洗良率 2026-02-25

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