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替代EUV光刻，新方案公布！

隨著英特爾、三星、臺(tái)積電以及日本即將落成的先進(jìn)晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準(zhǔn)備將越來越多的晶體管塞進(jìn)每平方毫米的硅片中，但它們有一個(gè)共同點(diǎn)，那就是它們所依賴的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)極其復(fù)雜...

EUV光刻 2024-06-13

次時(shí)代EUV光刻已箭在弦上?。?！

來源：新漢科技半導(dǎo)體技術(shù)的未來通常是通過光刻設(shè)備的鏡頭來看待的，盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問題幾乎永無休止，但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來的工藝節(jié)點(diǎn)提供更好的分辨率。多年來，光刻被視為持續(xù)器件微縮的與制造相關(guān)的主要控制因素，但受到多次...

EUV光刻 2023-07-29

EUV光刻太貴，替代方案被考慮

先進(jìn)的光刻技術(shù)對于摩爾定律微縮的延續(xù)至關(guān)重要。隨著芯片法案宣布將補(bǔ)貼美國半導(dǎo)體研發(fā)和制造500多億美元，人們對芯片制造技術(shù)的基本現(xiàn)狀產(chǎn)生了極大的興趣。目前，三星5納米工藝（指定為5LPE）就是向全球市場提供先進(jìn)芯片制造技...

EUV光刻 2022-11-15

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EUV光刻

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