EEPW
技術(shù)應(yīng)用
interferometer 利用干涉原理測(cè)量光程之差從而測(cè)定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng),而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動(dòng)變化可測(cè)量幾何長(zhǎng)度或折射率的微小改變量,從而測(cè)得與此有關(guān)的其他物理量。測(cè)量精度決定于測(cè)量光程差的精度,干涉條紋每移動(dòng)一個(gè)條紋間距,光程差就改變一個(gè)波長(zhǎng)(~10-7米),所以干涉儀是以光波波長(zhǎng)為單位測(cè)量光程差的,其測(cè)量精度之高是任何其他測(cè)量方法所無法比擬的。 根據(jù)光的干涉原理制成的一種儀器。
HBM4競(jìng)爭(zhēng)格局生變
長(zhǎng)江存儲(chǔ)進(jìn)入加速期,三期項(xiàng)目計(jì)劃今年建成投產(chǎn)
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