EEPW
技術應用
就是指制造工藝,比如說CPU,以前的制造工藝是130nm,后來又出現了90nm、45nm、30nm、22mn等,28nm好像是顯卡的制造工藝。 28納米工藝,指的是手機主板芯片里面的半導體溝道之間的距離,現在做到28納米了,之所以賣家要說這點,是科技進步的表現,能做到越小,這方面的技術工藝越先進,越小集成度越高,但是隨之而來會出現負面的效應,耗能散熱的問題,電子通過的通道越窄,一來是工藝越難做,其次是在微觀層面的能量效率問題,等等。。查看更多>>
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28納米