EEPW
技術(shù)應(yīng)用
x光機(jī)是產(chǎn)生X光的設(shè)備,其主要由X光管和X光機(jī)電源以及控制電路等組成,而X光管又由陰極燈絲 (Cathod)和陽極靶(Anode)以及真空玻璃管組成,X光機(jī)電源又可分為高壓電源和燈絲電源兩部分,其中燈絲電源用于為燈絲加熱,高壓電源的高壓輸出端分別家在陰極燈絲和陽極靶兩端,提供一個高壓電場使燈絲上活躍的電子加速流向陽極靶,形成一個高速的電子流。 X光的產(chǎn)生方式 三種方式可產(chǎn)生X光:軔致輻射(Bremsstrahlung)、電子俘獲、內(nèi)轉(zhuǎn)換,x光機(jī)產(chǎn)生X光的機(jī)理屬于軔致輻射。 電子俘獲: β衰變包括3種方式:β-衰變、β+衰變和電子俘獲(EC)。其中電子俘獲(EC)這種衰變可以表示為即母核俘獲1個核外軌道電子使核內(nèi)1個質(zhì)子轉(zhuǎn)變?yōu)橹凶樱⒎懦?個中微子,所以子核的電荷數(shù)變?yōu)閆-1,而質(zhì)量數(shù)保持不變。查看更多>>
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