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光刻工藝

光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝在此之后，晶圓表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。被除去的部分可能形狀是薄膜內(nèi)的孔或是殘留的島狀部分。 光刻工藝也被稱為大家熟知的Photomasking， masking， photolithography， 或micr 光刻 olithography。在晶圓的制造過程中，晶體三極管、二極管、電容、電阻和金屬層的各種物理部件在晶圓表面或表層內(nèi)構(gòu)成。

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淺析半導(dǎo)體行業(yè)圖形化工藝之光刻工藝

光刻工藝 晶圓 2018-10-30
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