久久ER99热精品一区二区-久久精品99国产精品日本-久久精品免费一区二区三区-久久综合九色综合欧美狠狠

光刻工藝

光刻(photoetching)是通過一系列生產步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝在此之后，晶圓表面會留下帶有微圖形結構的薄膜。被除去的部分可能形狀是薄膜內的孔或是殘留的島狀部分。 光刻工藝也被稱為大家熟知的Photomasking， masking， photolithography， 或micr 光刻 olithography。在晶圓的制造過程中，晶體三極管、二極管、電容、電阻和金屬層的各種物理部件在晶圓表面或表層內構成。

相關標簽