EEPW
技術(shù)應(yīng)用
在對(duì)感光鼓表面充電時(shí),隨著電荷在感光鼓表面的積累,電位也不斷升高,最后達(dá)到 "飽和"電位,就是最高電位。表面電位會(huì)隨著時(shí)間的推移而下降,一般工作時(shí)的電位都低 于這個(gè)電位,這個(gè)電位隨時(shí)間自然降低的過程,稱之為"暗衰"過程。感光鼓經(jīng)掃描曝光時(shí) ,暗區(qū)(指未受光照射部分的光導(dǎo)體表面)電位仍處在暗衰過程;亮區(qū)(指受光照射部分的 光導(dǎo)體表面)光導(dǎo)層內(nèi)載流子密度迅速增加,電導(dǎo)率急速上升,形成光導(dǎo)電壓,電荷迅速消 失,光導(dǎo)體表面電位也迅速下降。稱之為"光衰",最后趨緩。
HBM4競(jìng)爭(zhēng)格局生變
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