中國正在加大對光刻設(shè)備的投資，轉(zhuǎn)向本土工具，以尋求在美國出口限制下的更大技術(shù)獨(dú)立性。據(jù)《商業(yè)時報(bào)》援引京畿21日報(bào)道，中國科技部于25日宣布將投資約1.1億元人民幣，授予由國產(chǎn)設(shè)備制造商SMEE（上海微電子設(shè)備）生產(chǎn)的步掃描光刻系統(tǒng)合同。

報(bào)告援引業(yè)內(nèi)消息稱，SMEE隸屬于上海電集團(tuán)，被視為中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的核心企業(yè)，尤其是在先進(jìn)光刻工具的研發(fā)制造領(lǐng)域。今年五月，SMEE聲稱其90nm ArF光刻系統(tǒng)已進(jìn)入量產(chǎn)階段。

獲獎石版印刷工具的潛在細(xì)節(jié)

據(jù)21京記所述，該產(chǎn)品型號為SSC800/10，“SSC”是首次公開的光刻工具名稱。“SS”被廣泛認(rèn)為代表步進(jìn)掃描（step-and-scan），指的是當(dāng)今主流高精度半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)中使用的機(jī)械作方案，包括極紫外（EUV）和深紫外（DUV）工具。

與此同時，據(jù)ICsmart稱，盡管部分消息稱該系統(tǒng)支持28納米工藝，但驗(yàn)證發(fā)現(xiàn)獲獎機(jī)器實(shí)際上是使用248納米光源、分辨率110納米的KrF光刻系統(tǒng)。

MyDrivers 進(jìn)一步指出，SSC800 的覆蓋精度為 15nm，被認(rèn)為是干式光刻系統(tǒng)，而非高端沉浸式產(chǎn)品。

該獎項(xiàng)為何具有戰(zhàn)略意義

然而，招標(biāo)細(xì)節(jié)凸顯了中國對該獎項(xiàng)的重視。正如21景智所指出，合同通過單一來源采購機(jī)制授予，這種方式通常僅在涉及不可替代的專利或?qū)Ｓ屑夹g(shù)，或特定公共服務(wù)需求需要從單一供應(yīng)商采購時才被允許。報(bào)告補(bǔ)充說，相對較高的中標(biāo)金額——遠(yuǎn)高于平版相關(guān)招標(biāo)常見的數(shù)百萬甚至數(shù)千萬元人民幣——加上使用機(jī)密項(xiàng)目代碼（zycgr2011903），凸顯了該獎項(xiàng)的代表性和戰(zhàn)略性質(zhì)。

除了該合同外，中國還持續(xù)加大對國內(nèi)光刻技術(shù)開發(fā)的投資。據(jù)路透社報(bào)道，中國已組裝出一臺使用舊ASML系統(tǒng)組件的EUV原型機(jī)，中國政府目標(biāo)是在2028年前生產(chǎn)出基于該原型機(jī)的功能性芯片，盡管2030年被視為更現(xiàn)實(shí)的目標(biāo)。