EEPW
技術(shù)應(yīng)用
MASK(掩膜):單片機(jī)掩膜是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版,在單片機(jī)生產(chǎn)的過程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點(diǎn)是:程序可靠、成本低。缺點(diǎn):批量要求大,每次修改程序就需要重新做光刻板,不同程序不能同時(shí)生產(chǎn),供貨周期長。 在半導(dǎo)體制造中,許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù),用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”),其作用是:在硅片上選定的區(qū)域中對(duì)一個(gè)不透明的圖形模板掩膜,繼而下面的腐蝕或擴(kuò)散將只影響選定的區(qū)域 。
HBM4競爭格局生變
長江存儲(chǔ)進(jìn)入加速期,三期項(xiàng)目計(jì)劃今年建成投產(chǎn)
國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備加速崛起
上調(diào)100%!存儲(chǔ)市場又一重磅調(diào)價(jià)信號(hào)
插混車型成為“突破口”:中國車企在歐洲市場的銷量再創(chuàng)新高
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OTP/掩膜單片機(jī)