EEPW
技術應用
MASK(掩膜):單片機掩膜是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版,在單片機生產(chǎn)的過程中把程序做進去。優(yōu)點是:程序可靠、成本低。缺點:批量要求大,每次修改程序就需要重新做光刻板,不同程序不能同時生產(chǎn),供貨周期長。 在半導體制造中,許多芯片工藝步驟采用光刻技術,用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”),其作用是:在硅片上選定的區(qū)域中對一個不透明的圖形模板掩膜,繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選定的區(qū)域 。查看更多>>
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