光刻機(jī)技術(shù)社區(qū)

光刻機(jī)

國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備，包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī)，涂膠臺(tái)，金絲球焊機(jī)，電子束蒸發(fā)臺(tái)。濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備，世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī)，。如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www。loadpoint。查看更多>>

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光刻機(jī)資訊

解碼中國(guó)光刻挑戰(zhàn)ASML：從SiCarrier到替代EUV路徑

隨著北京向半導(dǎo)體自力更生邁進(jìn)，高端芯片制造工具不可或缺，但由 ASML 控制的光刻技術(shù)帶來(lái)了最大的挑戰(zhàn)，其用于 5 納米以下芯片的 EUV 機(jī)器禁止出口。值得注意的是，ASML 2025 年第三季度銷售額的 4...

半導(dǎo)體光刻機(jī) 2025-11-10

三星據(jù)報(bào)道首次外包光掩模，著眼于新的 EUV 光掩模技術(shù)

根據(jù) The Elec 報(bào)道，援引行業(yè)消息人士稱，三星首次外包光掩模——芯片制造中至關(guān)重要的組件。報(bào)道稱，三星據(jù)說(shuō)正在外包低端光掩模用于內(nèi)存芯片，這表明其策略是將資源轉(zhuǎn)向 ArF 和 EUV 掩模生產(chǎn)...

EUV 光刻機(jī) 2025-09-18

中芯國(guó)際據(jù)報(bào)測(cè)試國(guó)產(chǎn)深紫外（DUV）光刻設(shè)備，來(lái)自 SiCarrier 子公司， amid AI 芯片推動(dòng)

隨著中國(guó)通過(guò)增加國(guó)內(nèi) AI 芯片來(lái)對(duì)抗 NVIDIA 推動(dòng)半導(dǎo)體獨(dú)立，據(jù)報(bào)道，中國(guó)正朝著自力更生邁出另一大步，因?yàn)?SMIC 據(jù)報(bào)正在測(cè)試由本地初創(chuàng)公司 Yuliangsheng 開發(fā)的深紫外（DUV）光刻機(jī)。SiCar...

中芯國(guó)際 EDA 2025-09-17

ASML 和 SK hynix 在韓國(guó)的工廠組裝了業(yè)界首個(gè)“商用”High NA EUV 系統(tǒng)

ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實(shí)現(xiàn) 8 納米分辨率——而當(dāng)前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提...

EUV 光刻機(jī) 2025-09-04

尼康宣布關(guān)閉橫濱工廠，精密設(shè)備業(yè)務(wù)疲軟

8 月 21 日，尼康宣布計(jì)劃于 9 月 30 日關(guān)閉其橫濱工廠。據(jù)日經(jīng)報(bào)道，截至 7 月底，該設(shè)施雇傭了約 350 人。這些員工將留在公司，隨著工廠的運(yùn)營(yíng)轉(zhuǎn)移到東京品川的尼康總部以及神奈川縣的其他地點(diǎn)，他們...

尼康光刻機(jī) 2025-08-27

中國(guó)首臺(tái)商用電子束光刻機(jī)揭幕

8月13日，我國(guó)首臺(tái)自主研發(fā)的商用電子束光刻機(jī)“羲之”在浙江余杭正式揭幕。根據(jù)杭州政府網(wǎng)站的報(bào)道，這臺(tái)機(jī)器是浙江大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)化基地簽署的第一個(gè)項(xiàng)目之一。它已經(jīng)在客戶現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行了測(cè)試，精度與主流國(guó)際設(shè)備相當(dāng)。這一里程碑標(biāo)志著量...

光刻機(jī) 工藝制程 2025-08-18