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光刻技術社區

光刻

光刻Top 　　利用照相復制與化學腐蝕相結合的技術，在工件表面制取精密、微細和復雜薄層圖形的化學加工方法。光刻原理雖然在19世紀初就為人們所知，但長期以來由于缺乏優良的光致抗蝕劑而未得到應用。直到20世紀50年代，美國制成高分辨率和優異抗蝕性能的柯達光致抗蝕劑(KPR)之后，光刻技術才迅速發展起來，并開始用在半導體工業方面。光刻是制造高級半導體器件和大規模集成電路的關鍵工藝之一，并已用于刻劃光柵、線紋尺和度盤等的精密線紋。查看更多>>

全部資訊專欄資料論壇

光刻資訊

ASML報告2025年銷售額為327億歐元

ASML Holding NV 交出 2025 年創紀錄財務業績，印證了先進光刻設備需求的持續旺盛，以及市場對人工智能驅動的半導體領域投資信心的不斷提升。這家荷蘭半導體設備巨頭公布，2025 年全年凈營收達 327 億歐...

ASML 光刻 2026-02-02

據中國中小企業在國內推動下贏得1.1億元人民幣光刻工具合同

中國正在加大對光刻設備的投資，轉向本土工具，以尋求在美國出口限制下的更大技術獨立性。據《商業時報》援引京畿21日報道，中國科技部于25日宣布將投資約1.1億元人民幣，授予由國產設備制造商SMEE（上海微電子設備）生產的步...

光刻中國 2025-12-30

日本開發10納米印記技術，有望解決極紫外（EUV）瓶頸問題

日本大日本印刷公司（DNP）最近宣布成功開發出納米印刻光刻（NIL）技術，其電路線寬可達10納米。該技術旨在實現1.4nm級邏輯半導體電路的圖案化。客戶評估已經開始，目標于2027年實現大規模生產。公司預計該技術將繼續支...

光刻日本 2025-12-29

美國智庫指出DUVi存在漏洞，中國正推動利用多模式技術開發先進芯片

據報道，中國通過逆向工程舊ASML工具制造出極紫外光刻原型，引起了業界關注。然而，更大的擔憂可能不在于技術追趕，而在于現有出口管制中可能存在的漏洞。根據新美國安全中心的一份報告，更大的風險源于中國持續使用舊式光刻設備——...

DUVi 光刻 2025-12-23

據報道，中國利用較舊的ASML組件制造EUV原型機，Eyes 2028芯片制造

中國朝向國產紫外真空光刻能力的漫長進程似乎正在縮小，近期發展顯示進展速度超乎預期。據路透社報道，消息人士稱中國已組裝了一臺使用舊ASML系統組件的EUV原型機。正如報道所示，消息人士稱中國政府目標是在2028年前生產使用...

ASML EUV 2025-12-19

中國陜西8英寸硅光子學平臺正式上線

11月4日，陜西光電子先鋒科技有限公司總經理楊俊宏宣布，“8英寸先進”硅光子集成技術創新平臺（“8英寸硅光子學平臺”）已正式上線。該平臺將為光電和硅光子芯片推廣到光子工業中的眾多創新實體。該項目總投資7.5億元人民幣，于...

硅光刻 2025-11-20

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光刻專欄

僅次于光刻、我國半導體制造核心技術突破，核力創芯首批氫離子注入性能優化芯片產品交付

9 月 11 日消息，據國家電力投資集團有限公司（以下簡稱“國家電投”）9 月 10 日消息，近日，國家電投所屬國電投核力創芯（無錫）科技有限公司（以下簡稱“核力創芯”）暨國家原子能機構核技術（功率芯片質子輻照）研發中心...

光刻 2024-09-11

High NA EUV主要部件已經啟動，達成“第一道光”里程碑！

2月29日消息，據外媒Tomshardware報導，ASML與英特爾于本周宣布達成了High NA EUV的重要里程碑。ASML已向英特爾交付的最先進High NA EUV光刻機Twinscan EXE:5000的主要部...

光刻 2024-03-05

鼎龍股份多項光刻膠相關重大項目獲立項，將獲得1.6億元資金支持

11月9日晚間，國產半導體材料廠商鼎龍股份發布公告稱，公司及下屬子公司于今年相繼收到多項光刻膠相關國家及省級重要項目立項通知，公司布局的三大領域光刻膠相關產品：集成電路晶圓光刻膠及核心原料、半導體先進封裝用光刻膠、半導體...

光刻 2023-11-17

華為公開EUV光刻新專利，解決相干光無法勻光問題

華為日前公布了一項新專利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，專利申請號為CN202110524685.X，據介紹，這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，在極紫外光的光刻裝置基...

光刻 2022-11-23

EUV光刻，最終勝出！

來源：半導體行業觀察半個多世紀以來，半導體行業按照摩爾定律不斷發展，驅動了一系列的科技創新。隨著器件尺寸越來越逼近物理極限，摩爾定律對新一代工藝節點研發是否依然奏效成為當前全行業都在討論的問題。其中，光刻是摩爾定律的前沿...

光刻 2022-08-26

【科普】什么是EUV光刻？

在說EUV之前，讓我們先了解一下什么是光刻技術。光刻技術從基本上來說是一個投影系統，將光線投射并穿透印有電路藍圖的光罩，利用光學原理將圖樣打在已涂布感光****劑的硅晶片上，進行曝光。當未曝光的部分被蝕刻移除后，圖樣就會...

EUV 光刻 2019-06-17

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光刻資料

成品率驅動的光刻校正技術

成品率驅 2013-09-22 立即下載

IC工藝原理

外延氧化工藝 2009-06-14 立即下載

光刻工藝流程

光刻工藝流程 2009-03-07 立即下載

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04-28 集成電路的制造

wayaj|瀏覽：2923|回復：3| wayaj 2020-05-01 15:35:09

06-22 EUV光刻技術，想了解的可以下載看看

fellow|瀏覽：2715|回復：1| wys415622 2011-07-29 12:09:37

10-14 美國為其限制向中國出口光刻設備的政策辯護

hpnet|瀏覽：3106|回復：0| 2002-10-14 19:16:27

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長江存儲進入加速期，三期項目計劃今年建成投產

國產半導體設備加速崛起

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