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光刻

光刻Top 　　利用照相復(fù)制與化學(xué)腐蝕相結(jié)合的技術(shù)，在工件表面制取精密、微細(xì)和復(fù)雜薄層圖形的化學(xué)加工方法。光刻原理雖然在19世紀(jì)初就為人們所知，但長(zhǎng)期以來(lái)由于缺乏優(yōu)良的光致抗蝕劑而未得到應(yīng)用。直到20世紀(jì)50年代，美國(guó)制成高分辨率和優(yōu)異抗蝕性能的柯達(dá)光致抗蝕劑(KPR)之后，光刻技術(shù)才迅速發(fā)展起來(lái)，并開(kāi)始用在半導(dǎo)體工業(yè)方面。光刻是制造高級(jí)半導(dǎo)體器件和大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵工藝之一，并已用于刻劃光柵、線(xiàn)紋尺和度盤(pán)等的精密線(xiàn)紋。

wayaj|瀏覽：2923|回復(fù)：3| wayaj 2020-05-01 15:35:09
fellow|瀏覽：2715|回復(fù)：1| wys415622 2011-07-29 12:09:37
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光刻 光刻機(jī) 光刻設(shè)備