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ASML報告2025年銷售額為327億歐元

ASML Holding NV 交出 2025 年創紀錄財務業績，印證了先進光刻設備需求的持續旺盛，以及市場對人工智能驅動的半導體領域投資信心的不斷提升。這家荷蘭半導體設備巨頭公布，2025 年全年凈營收達 327 億歐...

ASML 光刻 2026-02-02

據中國中小企業在國內推動下贏得1.1億元人民幣光刻工具合同

中國正在加大對光刻設備的投資，轉向本土工具，以尋求在美國出口限制下的更大技術獨立性。據《商業時報》援引京畿21日報道，中國科技部于25日宣布將投資約1.1億元人民幣，授予由國產設備制造商SMEE（上海微電子設備）生產的步...

光刻中國 2025-12-30

日本開發10納米印記技術，有望解決極紫外（EUV）瓶頸問題

日本大日本印刷公司（DNP）最近宣布成功開發出納米印刻光刻（NIL）技術，其電路線寬可達10納米。該技術旨在實現1.4nm級邏輯半導體電路的圖案化?？蛻粼u估已經開始，目標于2027年實現大規模生產。公司預計該技術將繼續支...

光刻日本 2025-12-29

美國智庫指出DUVi存在漏洞，中國正推動利用多模式技術開發先進芯片

據報道，中國通過逆向工程舊ASML工具制造出極紫外光刻原型，引起了業界關注。然而，更大的擔憂可能不在于技術追趕，而在于現有出口管制中可能存在的漏洞。根據新美國安全中心的一份報告，更大的風險源于中國持續使用舊式光刻設備——...

DUVi 光刻 2025-12-23

據報道，中國利用較舊的ASML組件制造EUV原型機，Eyes 2028芯片制造

中國朝向國產紫外真空光刻能力的漫長進程似乎正在縮小，近期發展顯示進展速度超乎預期。據路透社報道，消息人士稱中國已組裝了一臺使用舊ASML系統組件的EUV原型機。正如報道所示，消息人士稱中國政府目標是在2028年前生產使用...

ASML EUV 2025-12-19

中國陜西8英寸硅光子學平臺正式上線

11月4日，陜西光電子先鋒科技有限公司總經理楊俊宏宣布，“8英寸先進”硅光子集成技術創新平臺（“8英寸硅光子學平臺”）已正式上線。該平臺將為光電和硅光子芯片推廣到光子工業中的眾多創新實體。該項目總投資7.5億元人民幣，于...

硅光刻 2025-11-20

ASML的魔力揭秘：其EUV優勢背后的技術和合作伙伴中國無法復制

雖然我國正在競相使用與華為相關的 SiCarrier 和 Yuliangsheng 的本土工具來縮小光刻差距，但現實情況是，極紫外（EUV）光刻技術仍然是一個完全不同的領域。能夠打印 5nm 以下芯片的機器不僅復雜，...

光刻芯片 2025-11-10

ASML亮相第八屆進博會，展示其全球AI洞察與面向主流芯片市場的全景光刻解決方案

半導體行業的領先供應商ASML（阿斯麥）將于11月5日至10日參加第八屆中國國際進口博覽會（以下簡稱“進博會”）。在本屆進博會上，ASML將以“積納米之微，成大千世界”為主題，亮相技術裝備展區4.1展館集成電路專區A1-...

ASML 進博會 2025-11-05

中國研究團隊首度揭秘光刻膠在顯影液中的微觀行為，為提升光刻精度與良率開辟新路徑

在芯片制造過程中，光刻承擔著將集成電路圖案轉印至晶圓表面的任務，其中通過光刻膠溶解在顯影液中形成納米尺度的電路圖形。然而，光刻領域長期存在一個難以窺探的“黑匣子”：即光刻膠在顯影液中的微觀行為，該行為直接影響光刻圖案的精...

光刻膠顯影 2025-10-28

ASML杯光刻「芯」勢力知識挑戰賽正式啟動

這是一場追光人的技術狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發出光刻英雄帖，集結菁英光刻「芯」勢力與ASML共尋技術之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢力知識挑戰賽由全球半導體行業領先供應商ASML發起，是一項面向中國半導...

ASML 光刻 2025-06-25

前英特爾CEO加入光刻技術初創公司

近日，英特爾前CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）宣布加入xLight，擔任董事會執行董事長，xLight官網上個月也公布了這一消息。xLight是一家面向極紫外（EUV）光刻機開發基于直線電子加速器的自由電...

英特爾 EUV 2025-04-15

ASML官網顯示：支持7nm高端DUV光刻機仍可出口

荷蘭政府宣布了限制某些先進半導體設備出口的新規定，這些規定將于9月1日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進芯片制造設備的公司在出口之前須獲得許可證。ASML在其官網發表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統（即...

ASML 芯片制造 2023-07-03

事關EUV光刻技術，中國廠商公布新專利

近日，據國家知識產權局官網消息，華為技術有限公司于11月15日公布了一項于光刻技術相關的專利，專利申請號為202110524685X。集成電路制造中，光刻覆蓋了微納圖形的轉移、加工和形成環節，決定著集成電路晶圓上電路的特...

EUV 光刻 2022-11-27

包括光刻！美國禁運6項關鍵技術

近日美國商務部工業安全局（BIS）宣布將六項新興技術添加到《出口管理條例》（EAR）的商務部管制清單（CCL）中。據了解，目前受到出口管制的新興技術總數已經達到了37項。美國商務部在官網發布公告中寫道：“此舉是為了支持關...

光刻 2020-10-26

臺積電公布3納米光刻規劃及未來路線

臺積電昨天召開了第一次虛擬技術研討會，公布了3納米光刻及未來路線計劃。過去幾年，臺積電已經與英特爾旗鼓相當，在半導體領域占據了領導地位。在今年年初英特爾宣布推遲其7納米工藝后，臺積電正抓住機會，以行業領導者的身份繼續“攻...

臺積電 3納米 2020-08-26

Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛摩爾定律

日前，中國國際半導體技術大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進...

Intel 臺積電 2020-07-02

泛林集團發布應用于EUV光刻的技術突破

近日，泛林集團發布了一項用于EUV光刻圖形化的干膜光刻膠技術。泛林集團研發的這項全新的干膜光刻膠技術，結合了泛林集團在沉積、刻蝕工藝上的領導地位及其與阿斯麥?(ASML) 和比利時微電子研究中心?(imec)?戰略合作的...

EUV 光刻 2020-02-28

日韓決裂，半導體誰最受傷？

6月末也是在大阪召開G20結束的時間，此次出口限制可謂是對韓國企業的一次“偷襲”！此次“偷襲”使人想起了第二次世界大戰時的“日本偷襲珍珠港”。...

日韓貿易戰半導體 2019-08-25

首次加入EUV極紫外光刻！臺積電二代7nm+工藝已量產

臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡，也領先Intel、三星一大步。...

光刻臺積電 2019-05-27

芯片是如何被制造出來的？芯片光刻流程詳解

　　在集成電路的制造過程中，有一個重要的環節——光刻，正因為有了它，我們才能在微小的芯片上實現功能?，F代刻劃技術可以追溯到190年以前，1822年法國人Nicephore niepce在各種材料光照實驗以后，開始試圖...

芯片光刻 2019-02-20

我國成功研制出的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備？

　　昨天關于中國成功超分辨率光刻機的新聞刷爆了朋友圈，這個新聞出來以后，輿論出現了兩個極端，一堆人說很牛，一堆人說吹牛。那么這兩種說法到底誰對誰錯呢?　　我們先看一下新聞：　　由中國科學院光電技術研究所主導的項目“超分辨...

光刻芯片 2018-12-03

基于模型的建議：光刻友好設計成功的導航

如今對于一些技術節點，設計人員需要在晶圓代工廠流片和驗收之前進行光刻友好設計(Litho Friendly Design) 檢查。由于先進節點的解析度增進技術(RET) 限制，即使在符合設計規則檢查 (DRC) 的設計中...

模型光刻 2017-06-13

“合肥造”光刻設備將打破國外壟斷

　　中國芯片制造業高端裝備一直以來依賴國外進口，尤其是高端光刻設備受到西方封鎖，有錢也買不到，或是毫無競價權，國內進口集成電路裝備采購每年達數十億美元。在高新區的合肥芯碁微電子裝備有限公司，正在通過自主創新，改變這種現況...

光刻芯片 2016-11-03

晶圓制造人才告急，校企聯動與在職培訓缺一不可

摘要：近日，明導公司與北京理工大學合作創建了光電聯合實驗室。合作儀式期間，部分專家學者談到目前晶圓制造人才非常缺乏，人才培養迫在眉睫。...

晶圓 OPC 2014-06-26

Molecular Imprints 將為半導體大批量制造提供先進光刻設備

　Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高分辨率與低擁有成本納米圖案成形系統和解決方案的技術領導商。MII 將利用其創新的 Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?) 技術成為半導...

半導體光刻 2012-09-25

SEMI：2013年全球光刻掩膜板市場預計可達33.5億美元規模

技術問題更讓人頭痛，隨著線寬必須不斷縮小的趨勢下，廠商面臨諸多艱巨的挑戰，更多先進的光刻掩膜板工具和材料必須應運而生，但卻僅有部份的客戶會轉移至更小尺寸的產品，而且似乎對于專有光刻掩膜板廠商的依賴也日益加深，因此批發式光...

光刻掩膜板 2012-08-05

2012-2013年中國半導體分立器件行業進入壁壘分析

　　1、技術壁壘　　半導體分立器件的研發生產過程涉及量子力學、微電子、半導體物理、材料學等諸多學科，需要綜合掌握外延、微細加工、封裝等多領域技術工藝，并加以整合集成，屬于技術密集型行業。隨著下游電子產品的升級換代，電...

半導體光刻 2012-05-28

SUSS MicroTec收購Tamarack Scientific公司

　　SUSS MicroTec，宣布收購位于美國加州科羅娜的Tamarack Scientific公司。兩家公司已經簽署相應的收購協議。協議約定，SUSS MicroTec以總價934萬美元外加盈利能力，收購100%的T...

Tamarack 光刻 2012-04-10

可彎曲式光電技術大躍進

美國科學家通過納米模版光刻技術(nanostencillithography)在可彎曲式基板上制作出大范圍的納米圖案。這個......

光電納米 2011-10-25

李長春在吉林華微調研時稱模擬器件行業很有前途

　　2011年8月26日，中共中央政治局常委李長春來華微電子調研。18時45分，中共中央政治局常委李長春一行來到華微電子六英寸新型功率半導體器件生產線(即芯片四部)門前，在公司夏增文董事長的陪同下參觀了該生產線。李長春首...

華微模擬器件 2011-09-07

2011韓國半導體光刻膠需求預計達2.58億美元

　　在半導體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠(Photoresist)占較大的生產成本，在技術與產業方面的重要性也非常高。根據DisplayBank統計，2011年用于韓國國內半導體產業的光刻膠量約為...

半導體光刻 2011-08-31

DRAM成本削減及節省步伐從2012年開始將放緩

　　據IHS iSuppli公司的研究，隨著DRAM市場過渡到效率更高的低納米技術，該產業的成本削減及節省步伐從2012年開始將放緩。...

DRAM 光刻 2011-07-10

MIT研究顯示電子束光刻可達9納米精度

　　美國麻省理工學院(MIT)的研究人員日前發表的一項研究成果顯示，電子束“光刻”精度可以小到9納米的范圍，刷新了以前一項精度為25納米的結果，這一進展有可能為電子束“光刻”和EUV(超紫外)光刻技術展開競爭提供了動力。...

光刻 EUV 2011-07-06

芯片制造三巨頭的次世代光刻技術戰略對比分析

　　臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業的死對頭，不過他們對付彼此的戰略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產品方面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務(至少從對...

芯片制造光刻 2011-03-03

HamaTech接到幾十份MaskTrack Pro設備訂單

　　SUSS MicroTec AG的全資子公司HamaTech APE GmbH & Co. KG近日宣布，已接到幾十份MaskTrack Pro設備訂單。MaskTrack Pro于2009年投產，是用于下一...

HamaTech 光刻 2010-12-24

ASML公布其Q3業績

　　ASML公司于10月13日公布其未經審計的Q3業績...

ASML 光刻 2010-10-15

Sokudo早餐會上論光刻技術趨勢

　　在SEMICON West舉行的Sokudo光刻論壇上對于實現22nm的各類光刻技術的進展、挑戰與未來市場前景進行了熱烈的討論。　　作為193nm光刻技術的接替者，ASML仍是全球EUV(遠紫外光光刻機) 技術的...

ASML 22nm 2010-07-20

Global Foundries宣布2015年將在15nm制程節點正式啟用EUV光刻技術

　　在最近召開的SemiCon West產業會議上， Global Foundries 公司宣布他們將在15nm制程節點開始啟用EUV極紫外光刻技術制造半導體芯片。 Global Foundries 公司負責制程技術研發...

GlobalFoundries 15nm 2010-07-16

Intel展示新材料極紫外光刻走向實用

　　新式半導體光刻技術中，極紫外光刻(EUV)被認為是最有前途的方法之一，不過其實現難度也相當高，從上世紀八十年代開始探尋至今已經將近三十年，仍然未能投入實用。極紫外光刻面臨的關鍵挑戰之一就是尋找合適的光刻膠(phot...

Intel 光刻 2010-06-17

美科學家設計出簡便快速的納米電線制造方法

　　美科學家設計出簡便快速的納米電線制造方法，只需加熱即可將氧化石墨烯轉為導電物質　　據美國物理學家組織網6月10日報道，美國一聯合研究小組稱，他們在利用石墨烯制造納米電路領域獲得了突破：設計出了簡便、快速的納米電線...

納米光刻 2010-06-17