EEPW
技術應用
晶圓減薄 集成電路制造技術的進步首先來源于市場需求的要求,其次是競爭的要求。在集成電路制造中, 半導體硅材料由于其資源豐富,制造成本低,工藝性好,是集成電路重要的基體材料。 從集成電路斷面結構來看,大部分集成電路是在硅基體材料的淺表面層上制造。由于制造工藝的 要求,對晶片的尺寸精度、幾何精度、表面潔凈度以及表面微晶格結構提出很高要求。查看更多>>
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