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復(fù)旦最新成果：用于規(guī)模化集成電路制造的12英寸高質(zhì)量二維半導(dǎo)體問世

二維半導(dǎo)體,CMOS,CVD...

二維半導(dǎo)體 CMOS 2023-10-07

ALD技術(shù)在未來半導(dǎo)體制造技術(shù)中的應(yīng)用

由于低溫沉積、薄膜純度以及絕佳覆蓋率等固有優(yōu)點(diǎn)，ALD（原子層淀積）技術(shù)早從21世紀(jì)初即開始應(yīng)用于半導(dǎo)體加工制造。DRAM電容的高k介電質(zhì)沉積率先采用此技術(shù)，但近來ALD在其它半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域也已發(fā)展出愈來愈廣泛的應(yīng)用。...

ALD 半導(dǎo)體制造 2017-06-08

Altatech Semiconductor獲得德國科研機(jī)構(gòu)的CVD設(shè)備訂單

　　Altatech Semiconductor獲得了一份多功能AltaCVD平臺(tái)訂單，該訂單來自德國慕尼黑Fraunhofer Research Institution。該200mm AltaCVD系統(tǒng)可用于等離子體增...

Altatech CVD 2011-02-13

Applied Materials宣布開發(fā)出深寬比高達(dá)30：1的化學(xué)氣相淀積技術(shù)

　　Applied Materials公司近日宣布開發(fā)出了一種新的化學(xué)氣相淀積(CVD)技術(shù)，這種技術(shù)能為20nm及更高等級(jí)制程的存儲(chǔ)/邏輯電路用晶體管淀積高質(zhì)量的隔離層結(jié)構(gòu)。據(jù)Applied Materials公司宣...

應(yīng)用材料 CVD 2010-08-26

應(yīng)用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機(jī)

應(yīng)用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機(jī)－ Applied Producer GT 近日，應(yīng)用材料公司宣布推出業(yè)界最快速最經(jīng)濟(jì)的CVD（化學(xué)氣相沉積）主機(jī) － Appl...

CVD 單片機(jī) 2006-12-04

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CVD

復(fù)旦最新成果：用于規(guī)模化集成電路制造的12英寸高質(zhì)量二維半導(dǎo)體問世

ALD技術(shù)在未來半導(dǎo)體制造技術(shù)中的應(yīng)用

Altatech Semiconductor獲得德國科研機(jī)構(gòu)的CVD設(shè)備訂單

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應(yīng)用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機(jī)

長虹S100型CVD機(jī)伺服部分電路

韓國知名手機(jī)調(diào)試器COdeViser

只使用一個(gè)ADC電容式觸摸（CVD）

IC工藝原理

淀積

外延

薄膜淀積工藝（中）

薄膜淀積工藝上

化學(xué)氣相淀積

ADI家庭總線數(shù)據(jù)線供電解決方案

EEPW 2025 年度產(chǎn)業(yè)技術(shù)回顧與展望直播——機(jī)器人專場

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