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應(yīng)用材料公司推出全新Ioniq? PVD系統(tǒng)助力解決二維微縮下布線電阻難題

應(yīng)用材料公司宣布推出一種全新系統(tǒng)，可改進(jìn)晶體管布線沉積工藝，從而大幅降低電阻，突破了芯片在性能提升和功率降低兩方面所面臨的重大瓶頸。芯片制造商正在利用光刻領(lǐng)域的先進(jìn)技術(shù)將芯片制程縮小至3納米及以下節(jié)點(diǎn)。但隨著互連線變細(xì)，...

PVD 布線 2022-05-27

ALD技術(shù)在未來半導(dǎo)體制造技術(shù)中的應(yīng)用

由于低溫沉積、薄膜純度以及絕佳覆蓋率等固有優(yōu)點(diǎn)，ALD（原子層淀積）技術(shù)早從21世紀(jì)初即開始應(yīng)用于半導(dǎo)體加工制造。DRAM電容的高k介電質(zhì)沉積率先采用此技術(shù)，但近來ALD在其它半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域也已發(fā)展出愈來愈廣泛的應(yīng)用。...

ALD 半導(dǎo)體制造 2017-06-08

應(yīng)用材料公司推革新液晶顯示器技術(shù)

　　應(yīng)用材料公司日前宣布，推出新的物理氣相沉積(PVD)和電漿強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)，促使超高畫質(zhì)(UHD)電視及高畫素密度屏幕的行動(dòng)裝置邁向新紀(jì)元。　　這項(xiàng)重大轉(zhuǎn)型技術(shù)的關(guān)鍵是新的金屬氧化物與低溫多晶硅...

應(yīng)用材料電視 2012-11-26

02政策專項(xiàng)“給力”國內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)

　　02專項(xiàng)的實(shí)施，對(duì)國內(nèi)半導(dǎo)體材料企業(yè)尤其是設(shè)備企業(yè)來說，具有歷史性的意義，因?yàn)榘雽?dǎo)體設(shè)備的研發(fā)所需資金數(shù)額巨大，若完全由國內(nèi)企業(yè)自己承擔(dān)，恐怕難以承受其重。02重大專項(xiàng)的實(shí)施，不僅表明國家支持半導(dǎo)體支撐業(yè)的決心，而且...

IC PVD 2011-04-13

道康寧公司擴(kuò)展表面耐污涂料產(chǎn)品系列

　　道康寧公司今天宣布擴(kuò)展其道康寧® 品牌的表面耐污涂料產(chǎn)品系列。新系列包含道康寧® 2634P產(chǎn)品，呈無溶劑球狀，其可通過物理氣相沉積 (PVD) 的方式來使用。　　經(jīng)常受到觸摸的表面很容易受到污染...

道康寧 PVD 2010-09-09

32nm節(jié)點(diǎn)的PVD設(shè)備暗戰(zhàn)？

　　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的低谷擋不住技術(shù)前進(jìn)的腳步。近期兩大設(shè)備廠商Applied Materials和Novellus相繼推出了新型PVD機(jī)臺(tái)，目標(biāo)均鎖定為32nm及更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)。　　5月28日，設(shè)備巨頭Novellus宣...

Novellus 半導(dǎo)體 2009-06-04

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PVD

應(yīng)用材料公司推出全新Ioniq? PVD系統(tǒng)助力解決二維微縮下布線電阻難題

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薄膜淀積工藝（下）

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