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　　軟誤差率(SER)問題是于上個世紀(jì)70年代后期作為一項存儲器數(shù)據(jù)課題而受到人們的廣泛關(guān)注的，當(dāng)時DRAM開始呈現(xiàn)出隨機(jī)故障的征兆。隨著工藝幾何尺寸的不斷縮小，引起失調(diào)所需的臨界電荷的減少速度要比存儲單元中的電荷聚集區(qū)的減小速度快得多。這意味著： 當(dāng)采用諸如90nm這樣的較小工藝幾何尺寸時，軟誤差是一個更加值得關(guān)注的問題，并需要采取進(jìn)一步的措施來確保軟誤差率被維持在一個可以接受的水平上?！　ˇ亮Ｗ拥挠绊憽　“雽?dǎo)體器件封裝所采用的壓?；衔镏杏锌赡芎兄T如Th232 和U238等雜質(zhì)，這些物質(zhì)往往會隨著時間的推移發(fā)生衰變。查看更多>>

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