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非常需要大陸 ASML執(zhí)行長(zhǎng)急瘋了！

美中貿(mào)易戰(zhàn)開(kāi)打后，跨國(guó)企業(yè)受到劇烈沖擊，許多企業(yè)多次喊話無(wú)法放棄大陸市場(chǎng)，半導(dǎo)體設(shè)備龍頭阿斯麥（ASML）新任執(zhí)行長(zhǎng)佛夸特（Christophe Fouquet）公開(kāi)喊話，全球都需要中國(guó)大陸生產(chǎn)的傳統(tǒng)芯片，西方國(guó)家投資不...

ASML EUV 2024-07-10

ASML：我們有五個(gè)EUV光刻機(jī)客戶

韓國(guó)三星電子公司是總部位于荷蘭的 ASML Holding NV 的“苛刻客戶”，因?yàn)樗谠黾雍商m公司的極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)的訂單，ASML 的高級(jí)執(zhí)行官表示。這家全球第一大內(nèi)存芯片制造商是該公司 EUV 光刻...

EUV 2023-05-12

EUV替代品？佳能新一代光刻機(jī)將推出

來(lái)源：內(nèi)容由半導(dǎo)體行業(yè)觀察（ID：icbank）綜合自eenewseurope，謝謝。經(jīng)過(guò)八年的研發(fā)和有限銷售，佳能正準(zhǔn)備為市場(chǎng)量產(chǎn)納米壓印光刻芯片制造設(shè)備。佳能正在東京以北的栃木縣宇都宮建廠，估計(jì)耗資 500 億日元（...

EUV 2022-12-14

EUV光刻太貴，替代方案被考慮

先進(jìn)的光刻技術(shù)對(duì)于摩爾定律微縮的延續(xù)至關(guān)重要。隨著芯片法案宣布將補(bǔ)貼美國(guó)半導(dǎo)體研發(fā)和制造500多億美元，人們對(duì)芯片制造技術(shù)的基本現(xiàn)狀產(chǎn)生了極大的興趣。目前，三星5納米工藝（指定為5LPE）就是向全球市場(chǎng)提供先進(jìn)芯片制造技...

EUV 2022-11-09

42臺(tái)EUV光刻機(jī)狂賺450億！ASML年度成績(jī)單來(lái)了

Q4營(yíng)收50億歐元，毛利率達(dá)54%。作者 | 高歌編輯 | Panken芯東西1月20日?qǐng)?bào)道，荷蘭當(dāng)?shù)貢r(shí)間1月19日，光刻機(jī)廠商ASML發(fā)布了其2021年第...

EUV 2022-01-21

下一代EUV光刻機(jī)即將爆發(fā)

隨著先進(jìn)制程芯片上量（包括邏輯芯片和存儲(chǔ)器），芯片制造端的高技術(shù)含量規(guī)模也在不斷擴(kuò)大，其中，最具代表性的就是EUV光刻機(jī)，市場(chǎng)對(duì)其需求在未來(lái)幾年將大幅增加。ASML預(yù)期今年EUV設(shè)備出貨量有望達(dá)到50臺(tái)，這已經(jīng)是一個(gè)非常...

EUV 2021-12-28

不止EUV，先進(jìn)芯片制造還有新選擇

過(guò)去50多年里，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直沿著摩爾定律向前發(fā)展，芯片工藝節(jié)點(diǎn)先后跨越了90nm、45nm、28nm、14nm，如今7nm和5nm已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，3nm和2nm是現(xiàn)在業(yè)界努力的方向，在這個(gè)不斷演進(jìn)的過(guò)程中，以光刻為基礎(chǔ)的...

EUV 2021-12-26

EUV光刻機(jī)內(nèi)部揭秘！

PatrickWhelan正在透過(guò)他的潔凈室服面板凝視著事情的進(jìn)展。在他面前是一塊閃閃發(fā)光的玻璃，大約有一個(gè)烤箱那么大，上面刻有許多挖出的部分以減輕重量，看起來(lái)像一個(gè)外星圖騰。Whelan 的團(tuán)隊(duì)正在將它粘在...

EUV 2021-11-09

挑戰(zhàn)EUV光刻？NIL靠譜嗎！

芯片制造離不開(kāi)光刻機(jī)，且制程越先進(jìn)，其重要性越凸出，占芯片制造總成本比例也越高，總體來(lái)看，光刻機(jī)的成本占總設(shè)備成本的30%。當(dāng)制程發(fā)展到7nm后，必須要用到EUV(極紫外線)光刻機(jī)，這種光刻機(jī)只有ASML能夠生產(chǎn)，且產(chǎn)能...

EUV 2021-11-01

【科普】什么是EUV光刻？

在說(shuō)EUV之前，讓我們先了解一下什么是光刻技術(shù)。光刻技術(shù)從基本上來(lái)說(shuō)是一個(gè)投影系統(tǒng)，將光線投射并穿透印有電路藍(lán)圖的光罩，利用光學(xué)原理將圖樣打在已涂布感光****劑的硅晶片上，進(jìn)行曝光。當(dāng)未曝光的部分被蝕刻移除后，圖樣就會(huì)...

EUV 光刻 2019-06-17

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