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外延生長

外延生長Top　　外延生長【epitaxial growth】【】 在單晶襯底（基片）上生長一層有一定要求的、與襯底晶向相同的單晶層的方法。外延生長技術(shù)發(fā)展于20世紀(jì)50年代末60年代初，為了制造高頻大功率器件，需要減小集電極串聯(lián)電阻。生長外延層有多種方法，但采用最多的是氣相外延工藝，常使用高頻感應(yīng)爐加熱，襯底置于包有碳化硅、玻璃態(tài)石墨或熱分解石墨的高純石墨加熱體上，然后放進(jìn)石英反應(yīng)器中，也可采用紅外輻照加熱。為了克服外延工藝中的某些缺點(diǎn)，外延生長工藝已有很多新的進(jìn)展：減壓外延、低溫外延、選擇外延、抑制外延和分子束外延等。

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