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NXE:3800E EUV技術社區

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NXE:3800E EUV資訊

國產半導體設備加速崛起

據《日經亞洲》報道，日本研究機構Global Net數據顯示，2025年全球芯片設備廠商前20強中有3家中國企業，較2022年美國出口限制前新增2家。這三家公司分別是北方華創、中微公司和上海微電子。值得注意的是，若將范圍...

半導體設備 ASML 2026-02-03

ASML計劃裁員4%，簡化技術部門內的決策流程

全球最大的先進芯片荷蘭制造商ASML在公布其銷售額連續第十三年實現增長后，CEO克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在聲明中表示，計劃裁減約1700個工作崗位，作為其技術和IT運營重組的一部分。此次裁...

ASML DUV 2026-01-29

三星首次引入紫外層薄膜是在美國泰勒工廠

三星電子將首次在美國泰勒晶圓廠推出“極紫外（EUV）薄膜”，這是一種提升先進半導體工藝生產力的關鍵組件。此前尚不清楚是否會引入，但通過訂購關鍵設備幾乎確認了申請。根據22日的行業報道，三星電子已在美國德克薩斯州泰勒工廠訂...

三星紫外層薄膜 2026-01-26

中國EUV技術實現突破，半導體競賽格局生變

隨著計算技術的進步，越來越多的先進芯片應運而生。最新一代 3 納米和 2 納米制程芯片的尺寸極小，傳統光源波長已無法在如此精細的尺度上實現可靠的圖形光刻。這一挑戰并非新題 —— 半導體行業長期以來一直使用深紫外光刻（DU...

EUV 半導體 2025-12-25

據報道，中國利用較舊的ASML組件制造EUV原型機，Eyes 2028芯片制造

中國朝向國產紫外真空光刻能力的漫長進程似乎正在縮小，近期發展顯示進展速度超乎預期。據路透社報道，消息人士稱中國已組裝了一臺使用舊ASML系統組件的EUV原型機。正如報道所示，消息人士稱中國政府目標是在2028年前生產使用...

ASML EUV 2025-12-19

ASML CEO警告：過度封鎖或加速中國技術自主

全球光刻機巨頭阿斯麥（ASML）首席執行官克里克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在專訪時，談到了被禁止向中國出口所有EUV設備及最先進的深紫外（DUV）光刻設備，就當前西方對華光刻機出口限制政策，拋...

ASML DUV 2025-12-16

NXE:3800E EUV專欄

NXE:3800E EUV資料

EUV來了

EUV 制程 2011-06-22 立即下載

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雙胞胎健康監測系統部署代碼和步驟

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雙胞胎健康監測系統參考源碼

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