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光刻膠

光刻膠-正文Top   又稱光致抗蝕劑,由感光樹脂、增感劑(見光譜增感染料)和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經光照后,在曝光區能很快地發生光固化反應,使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發生明顯變化。經適當的溶劑處理,溶去可溶性部分,得到所需圖像(見圖)。光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制版等過程。

  • 光刻膠資訊

上海出臺新規劃,重點發展集成電路、關鍵設備及光刻膠

上海 集成電路 2026-01-15

日本或將全面停止向中國出口光刻膠

光刻膠 2025-12-09

華為相關公司推動中國芯片在材料、光刻膠和EDA領域的構建

華為 芯片 2025-11-20

中國研究團隊首度揭秘光刻膠在顯影液中的微觀行為,為提升光刻精度與良率開辟新路徑

光刻膠 顯影 2025-10-28

三星大幅減少未來生產NAND所需光刻膠使用量

三星 光刻膠 2024-11-27

國產光刻膠通過量產驗證

國產光刻膠通過量產驗證,武漢太紫微公司 T150 A 分辨率達 120nm

光刻膠 半導體 2024-10-15

復旦大學研發半導體性光刻膠,實現特大規模集成度有機芯片制造

光刻膠 2024-07-16

芯源微廣州子公司光刻膠泵及高純供液系統產業化項目開工

光刻膠 芯源微 2024-04-26

國產光刻膠新突破!

國產 光刻膠 2024-04-08

我國科研團隊完成新型光刻膠技術初步驗證:為EUV光刻膠開發做技術儲備

光刻膠 2024-04-02

這家企業欲收購光刻膠龍頭關鍵股份

光刻膠 2024-01-16

JSR或1萬億日元被收購,全球光刻膠競爭加???

JSR 光刻膠 2023-06-26

三星首次采用韓國本土EUV光刻膠 打破日企壟斷

三星 韓國 2022-12-06

三星首次引進本土生產光刻膠,日本稱霸該市場

三星 光刻機 2022-12-05

日本光刻膠大廠旗下工廠發生爆炸事故

日本 光刻膠 2022-03-03

中國半導體行業10大光刻膠企業

光刻膠 2021-09-05

比芯片更讓人擔憂:光刻膠自給率不足5%,50nm工藝以下全靠進口

光刻膠 芯片 2021-06-04

中國芯片產業再破“卡脖子”,華為迎來新希望

光刻機 光刻膠 2021-05-13

在EUV光刻技術上,日本公司壟斷了光刻膠的供應

EUV 光刻膠 2020-10-12

光刻膠:芯片產業鏈形成的關鍵原料

光刻膠 2020-09-15

光刻膠和掩膜版,純國產芯片生產需要克服的兩個重要障礙

光刻膠 掩膜版 2020-09-14

打破日美壟斷 國產ArF光刻膠取得重大突破:可用于7nm工藝

美國 日本 2020-05-25

90%市場被國外廠商壟斷 光刻膠國產化急需提速!

CPU處理器 光刻機 2020-03-19

日本部分解除對韓出口限制:光刻膠不再禁售

韓國 日本 2019-12-24

不合格光刻膠致大量晶圓報廢 臺積電雷霆換將:新設檢測部門

光刻膠 臺積電 2019-04-24

光刻膠材料的重大突破 極紫外光刻邁向實用

SEMI:半導體材料市場反彈至創新的記錄

半導體材料 硅片 2010-07-19

TFT高性能光刻膠國產化勢在必行

液晶 TFT-LCD 2009-07-22

華飛微電子:國產高檔光刻膠的先行者

光刻膠 集成電路 2007-12-27
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