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4億美元太貴！臺積電仍拒絕購買ASML的High-NA EUV設(shè)備

目前，生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體必不可少的EUV（極紫外）光刻設(shè)備由荷蘭ASML獨家供應(yīng)，而臺積電2nm工藝就是利用現(xiàn)有的EUV設(shè)備實現(xiàn)晶圓的大規(guī)模量產(chǎn)，并保持較高的良率。但隨著推進(jìn)到更先進(jìn)的次2nm節(jié)點 —— 即1.4nm與1nm...

臺積電 ASML 2025-10-23

High-NA不是通往2納米時代的唯一道路

半導(dǎo)體行業(yè)正在重新評估其制造最先進(jìn)芯片的長期路線圖。高數(shù)字光圈(High-NA)光刻技術(shù),曾被視為2 nm以下節(jié)點小型化的明確路徑,現(xiàn)在正在與其他選項進(jìn)行權(quán)衡。盡...

High-NA 2納米 2025-09-18

SK海力士引入全球首臺High-NA EUV設(shè)備

據(jù)SK海力士官方消息，2025年9月3日，該公司在韓國利川M16工廠成功引進(jìn)了業(yè)界首款量產(chǎn)型高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)（High-NA EUV），并舉行了設(shè)備入廠慶祝儀式。此次引進(jìn)的設(shè)備為荷蘭ASML公司開發(fā)的TWINSCA...

SK海力士 High-NA 2025-09-03

半導(dǎo)體巨頭對high-NA EUV態(tài)度分化

據(jù)外媒報道，近期，一位匿名英特爾高層提出一種頗具爭議的觀點：未來晶體管設(shè)計，例如GAAFET和CFET架構(gòu)，可能會降低芯片制造對先進(jìn)光刻設(shè)備的依賴，尤其是對EUV光刻機(jī)的需求。這一觀點無疑對當(dāng)前芯片制造技術(shù)的核心模式提出...

半導(dǎo)體 high-NA EUV 2025-07-01

臺積電仍在評估ASML的“High-NA”，因為英特爾未來會使用

全球最大的合同芯片制造商臺積電制造股份有限公司（2330.TW）仍在評估何時將 ASML 的尖端高數(shù)值孔徑（NA）機(jī)器用于其未來的工藝節(jié)點，一位高管周二表示。芯片制造商正在權(quán)衡這些價值近 4 億美元的機(jī)器的速度和...

臺積電 ASML 2025-05-28

英特爾：ASML首批兩臺High-NA EUV設(shè)備已投產(chǎn)

據(jù)路透社報道，半導(dǎo)體大廠英特爾近日表示，半導(dǎo)體設(shè)備大廠阿斯麥（ASML）的首批兩臺尖端高數(shù)值孔徑（High NA）光刻機(jī)已在其工廠正式投入生產(chǎn)，且早期數(shù)據(jù)顯示，這些設(shè)備的性能比之前的機(jī)型更可靠。報道稱，英特爾資深首席工程...

英特爾 ASML 2025-02-26

英特爾兩臺High NA EUV光刻機(jī)已投產(chǎn)，單季完成3萬片晶圓

據(jù)路透社2月24日報道，英特爾資深首席工程師Steve Carson在美國在加利福尼亞州圣何塞舉行的一場會議上表示，英特爾已經(jīng)安裝的兩臺ASML High NA EUV光刻機(jī)正在其晶圓廠生產(chǎn)，早期數(shù)據(jù)表明它們的可靠性大約...

英特爾 High NA EUV 2025-02-26

英特爾：首批兩臺High-NA EUV 設(shè)備已投產(chǎn)

英特爾24日表示，ASML首批的兩臺先進(jìn)曝光機(jī)已投產(chǎn)，早期數(shù)據(jù)顯示比之前機(jī)型更可靠。英特爾資深首席工程師 Steve Carson 指出，英特爾用ASML 高數(shù)值孔徑（High NA）曝光機(jī)一季內(nèi)生產(chǎn) 3 萬片晶圓，即生...

英特爾 High-NA 2025-02-25

imec采用High-NA EUV技術(shù) 展示邏輯與DRAM架構(gòu)

比利時微電子研究中心（imec），在荷蘭費爾德霍溫與艾司摩爾（ASML）合作建立的高數(shù)值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影實驗室中，利用數(shù)值孔徑0.55的極紫外光曝光機(jī)，發(fā)表了曝光后的圖形化組件結(jié)構(gòu)。在單次曝光后...

imec High-NA 2024-08-13

價值3.83億美元！Intel拿下全球第二臺High NA EUV光刻機(jī)

8月6日消息，在近日的財報電話會議上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV（極紫外光刻機(jī)）。High NA EUV光刻機(jī)是目前世界上最先進(jìn)的芯片制造設(shè)備之一，其分辨率達(dá)到8...

Intel High NA EUV 2024-08-07

ASML第二臺High-NA設(shè)備，即將導(dǎo)入英特爾奧勒岡廠

英特爾正接收ASML第二臺耗資3.5億歐元（約3.83億美元）的新High NA EUV設(shè)備。根據(jù)英特爾8/1財報電話會議紀(jì)錄，CEO Pat Gelsinger表示，英特爾12月開始接收第一臺大型設(shè)備，安裝時間需要數(shù)月...

ASML High-NA 2024-08-06

臺積電CEO秘訪ASML，High-NA EUV光刻機(jī)競賽提前打響？

5月26日，臺積電舉辦“2024年技術(shù)論壇臺北站”的活動，臺積電CEO魏哲家罕見的沒有出席，原因是其秘密前往荷蘭訪問位于埃因霍溫的ASML總部，以及位于德國迪琴根的工業(yè)激光專業(yè)公司TRUMPF。ASML CEO Chri...

臺積電 ASML 2024-05-30

High-NA EUV光刻機(jī)或?qū)⒊蔀橛⑻貭柕霓D(zhuǎn)機(jī)

上個月英特爾晶圓代工宣布完成了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機(jī)組裝工作。隨后開始在Fab D1X進(jìn)行校準(zhǔn)步驟，為未來工藝路線圖的生產(chǎn)做好準(zhǔn)備。...

High-NA EUV 2024-05-09

High-NA EUV光刻機(jī)入場，究竟有多強(qiáng)？

光刻機(jī)一直是半導(dǎo)體領(lǐng)域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機(jī)（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實基礎(chǔ)；再到后來的極紫外光刻機(jī)（EUV）以其獨特的極紫外光源和更短的波長，成功將光刻精度推向了新的高度；...

High-NA EUV 2024-04-03

ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻機(jī)引入部分 High-NA 機(jī)型技術(shù)

3 月 27 日消息，據(jù)荷蘭媒體 Bits&Chips 報道，ASML 官方確認(rèn)新款 0.33NA EUV 光刻機(jī) ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機(jī)的技術(shù)，運行效率得以提升。根據(jù)...

ASM NXE:3800E EUV 2024-03-27

英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機(jī)？

HIGH NA 無疑是打贏下一場比賽的重要籌碼。...

英特爾 ASML 2024-01-11

英特爾拿下首套High-NA EUV，臺積電如何應(yīng)對？

英特爾（intel）近日宣布，已經(jīng)接收市場首套具有0.55數(shù)值孔徑（High-NA）的ASML極紫外（EUV）光刻機(jī)，預(yù)計在未來兩到三年內(nèi)用于 intel 18A 工藝技術(shù)之后的制程節(jié)點。相較之下，臺積電則采...

英特爾 High-NA EUV 2024-01-08

SK海力士引領(lǐng)High-k/Metal Gate工藝變革

由于傳統(tǒng)微縮(scaling)技術(shù)系統(tǒng)的限制，DRAM的性能被要求不斷提高，而HKMG(High-k/Metal Gate)則成為突破這一困局的解決方案。SK海力士通過采用該新技術(shù)，并將其應(yīng)用于全新的1anm LPD...

SK海力士 High-k 2022-11-08

High-end A4監(jiān)聽音箱的制作

一、設(shè)計及制作由于普通家庭室.內(nèi)空間不夠?qū)挸ǎ笠粝渥龅帽M可能小巧一些，擺放在室內(nèi)不致引人注意。然而，音箱的效率no與箱體容積VB和低頻-3d8滾降點f3有以下關(guān)系：no=knmiddot;f33middot;VB上式...

制作音箱 2012-10-27

安森美ADS軟件的 High-Q IPD工藝設(shè)計套件

電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò)家園...

安森美 ADS 2012-06-25

如何制作High-end A4監(jiān)聽音箱

一、設(shè)計及制作由于普通家庭室．內(nèi)空間不夠?qū)挸ǎ笠粝渥龅帽M可能小巧一些，擺放在室內(nèi)不致引人注意。然而，音箱的效率no與箱體容積VB和低頻-3d8滾降點f3有以下關(guān)系：no＝knmiddot;f33middot;VB上式...

監(jiān)聽音箱 2011-12-24

Derive simple high-current source from lab sup

Comprising a standard Force-Sense lab power supply, an additional power supply for the ICs, and a separate con...

high-current Derive 2010-08-17

制作High-end A4監(jiān)聽音箱的方法

一、設(shè)計及制作由于普通家庭室．內(nèi)空間不夠?qū)挸ǎ笠粝渥龅帽M可能小巧一些，擺放在室內(nèi)不致引人注意。然而，音箱的效率no與箱體容積VB和低頻-3d8滾降點f3有以下關(guān)系：no＝kn?f33?VB上式中，kn是箱體系數(shù)，...

音箱方法 2010-05-28

半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)研發(fā)經(jīng)費拮據(jù)　聯(lián)盟關(guān)系將成救星

　　市場研究機(jī)構(gòu)Gartner警告，半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)的研發(fā)預(yù)算恐怕在接下來的五年內(nèi)大幅削減80億美元，使該產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域陷入危機(jī)。不過該機(jī)構(gòu)資深分析師Dean Freeman也表示，研發(fā)聯(lián)盟的興起將成為救星。　　缺乏適當(dāng)?shù)耐?..

半導(dǎo)體設(shè)備通孔硅 2009-09-10

臺灣晶圓廠選擇 ASM 提供 High-k ALD工具

　　ASM International N.V. 宣布一家臺灣晶圓廠為其28 納米節(jié)點high-k 閘極介電層量產(chǎn)制程選擇ASM的Pulsar原子層沉積技術(shù)(ALD)工具。　　除此之外，此家晶圓廠也將與ASM針對最新...

ASM high-k 2009-05-06

凌華推出High Speed Link延伸模塊

　凌華科技推出High Speed Link系統(tǒng)延伸模塊HSL-HUB3與HSL-Repeater。此產(chǎn)品可以為HSL用戶提供最長可達(dá)2400公尺的長距離使用及多點連接(multi-drop)接線架構(gòu)...

High Link 2006-09-05

瑞昱推出High Definition 音訊轉(zhuǎn)換芯片

音訊內(nèi)容保護(hù) (Content Protection) 技術(shù)與透過傳統(tǒng)電話的Skype應(yīng)用功能加速音訊轉(zhuǎn)換芯片在數(shù)字家庭的應(yīng)用瑞昱半導(dǎo)體在美國舊金山的Intel春季科技論壇推出最新一代的高...

High Definition 2006-03-13

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